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          武漢新芯發(fā)表240億美元投資計劃 著手3D NAND研發(fā)

          作者: 時間:2016-04-19 來源:Digitimes 收藏

            大陸國營企業(yè)武漢(XMC)最近發(fā)表約240億美元的投資計劃,將以武漢為基地,興建以生產(chǎn) Flash為主的半導(dǎo)體工廠。依韓國業(yè)界看法,武漢與三星電子(Samsung Electronics)仍有至少3~4年的技術(shù)差距,但將是大陸市場上的潛在最大對手。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201604/289872.htm

            據(jù)韓聯(lián)社報導(dǎo),大武漢最近發(fā)表27兆韓元(約240億美元)的投資計劃,將以武漢為基地,興建以生產(chǎn) Flash為主的半導(dǎo)體工廠。地方政府已從投資機構(gòu)湖北省集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金方面取得鉅額資金。

            韓聯(lián)社引述EE Times對日本分析師訪問指出,武漢新芯想趕上三星至少還需要3~4年時間,而認(rèn)為武漢新芯想消除與韓廠之間的技術(shù)差距,花費時間可能不只如此的分析師也大有人在。

             Flash領(lǐng)域霸主三星市占率在31~35%左右,并擁有獨家3D NAND Flash堆疊技術(shù)。即便如此,全球業(yè)者對于3D NAND Flash領(lǐng)域龍頭三星的追逐戰(zhàn)仍在熱烈上演。

            據(jù)EE Times的報導(dǎo),三星與東芝(Toshiba)之間尚有1年的技術(shù)差距,由于東芝3D NAND Flash目前仍處于樣品水準(zhǔn),而三星已進(jìn)入量產(chǎn)階段。依日本分析師研判,樣品與量產(chǎn)之間的技術(shù)差距大約為1年。

            此外,英特爾(Intel)將位于大連的邏輯芯片12吋廠改造為3D NAND Flash工廠,正致力發(fā)展相關(guān)技術(shù);武漢新芯也為了突破初期技術(shù)限制,選擇與美商Spansion合作。

            已被Cypress購并的半導(dǎo)體設(shè)計公司Spansion,自10年前就致力發(fā)展名為mirror-bit的3D NAND 技術(shù)。武漢新芯憑藉著對Spansion技術(shù)的信心,在2014年啟動3D NAND計劃,預(yù)期2018年就可開始商業(yè)化生產(chǎn)。

            市調(diào)機構(gòu)IHS也評論武漢新芯的挑戰(zhàn),對三星將是一大難題。由于大陸存儲器市場有55%的需求源自本國市場,因此政府為了達(dá)成半導(dǎo)體自產(chǎn)自銷的目標(biāo),扶植存儲器產(chǎn)業(yè)的意志很強烈。對三星而言,現(xiàn)在大陸市場上最大的潛在對手就是武漢新芯。

            另一方面,爾必達(dá)(Elpida)前CEO坂本幸雄與大陸安徽省合肥市政府合作成立半導(dǎo)體新廠兆基科技,還祭出延攬1,000名半導(dǎo)體工程師的獵人頭計劃,引發(fā)關(guān)注。兆基科技目前由10多名日本、臺灣工程師組成,在草創(chuàng)時期想吸引千名工程師似乎不太可能。



          關(guān)鍵詞: 新芯 NAND

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