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          格羅方德近年發(fā)展歷程梳理 從AMD分拆以后走過哪些路

          作者: 時間:2016-10-21 來源:半導體行業(yè)觀察 收藏
          編者按:2015作為晶圓代工廠排名第二的晶圓廠,GF目前的表現(xiàn)無疑是讓人失望的。在全球晶圓廠都在受惠于IC產(chǎn)業(yè),尤其是中國IC產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展的大環(huán)境下,GF卻不進反退,我們來回顧一下GF近些年的發(fā)展歷程,看究竟它從AMD分拆以后,經(jīng)歷了什么。

            那么在兩家不同企業(yè)技術整合方面,目前Global Foundries14納米FinFET制程技術的主要來源為三星電子(SamsungElectronics)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201610/311635.htm

            其實Globalfoundries當時原計劃自己推出14nm-XM工藝,但宣布之后就沒了下文,最終自己的工藝腹死胎中,他們直接選擇了三星的14nm FinFET工藝,借助后者豐富的經(jīng)驗和成熟的工藝突圍。未來IBM與Global Foundries在FinFET技術的發(fā)展方向應該會朝向于支援與整合三星電子的技術。

            但按照2014年年底分析師的報道,Global Foundries的晶圓廠當時14nm尚未準備完畢,且進度恐怕會拖延一至兩季。部分設備業(yè)者猜測,財務或良率等問題,可能是拖延進度的主因。

            而在2015年中,GlobalFoundries已經(jīng)開始使用14nm FinFET(14LPE)工藝為它們的客戶量產(chǎn)芯片。Global Foundries表示它們的14nm半導體產(chǎn)能可以比肩三星(Samsung Foundry)。GlobalFoundries的發(fā)言人Jason Gorss表示,他們的14nm爬坡量產(chǎn)已經(jīng)步入正軌,產(chǎn)能可以等同于盟友三星。Global Foundries沒有透露他們每個月能使用14nm LPE工藝生產(chǎn)出多少塊晶圓,但該公司表示,用于14nmFinFET工藝商業(yè)生產(chǎn)的部分重要設備已經(jīng)安裝好。

            也就是在2015年,Global Foundries超越聯(lián)電,爬上了晶圓代工廠二哥的位置。

            但對于Global Foundries來說,這是不夠的,因為據(jù)媒體披露,自從2008年從分拆出來之后,它一直表現(xiàn)不佳,2014年虧損更是高達15億美元,2013年也虧了9億美金。因此GlobalFoundries要多種方式求變。

          強攻FD-SOI,實現(xiàn)彎道超車?

            與三星聯(lián)手搞定14nm FinFET并獲得CPU/GPU全面采納,又與簽訂五年晶圓供應合約共同開發(fā)7nm工藝,習慣性炸雷的GlobalFoundries最近有點春風得意的感覺,接下來又要進軍12nm工藝了,但走的是道路有些特殊:FD-SOI(全耗盡型絕緣層上硅)。

            大家都知道,目前半導體工藝已經(jīng)全面從2D晶體管轉向3D晶體管,Intel、臺積電、三星以及GF自己都在做。

            另一方面,AMD雖然工藝上一直落后,但有個獨門秘籍那就是SOI(絕緣層上硅),當年與藍色巨人IBM合作搞的,可以將工藝提高半代水平,其優(yōu)秀表現(xiàn)也是有目共睹的。

            不過,AMD進入32nm之后就拋棄了SOI,不過獨立后的GF一直保留著SOI技術,還收購了IBM的相關技術,后者最新的Power8就是采用22nmSOI工藝制造的。

            GF此前已經(jīng)全球第一家實現(xiàn)22nm FD-SOI(22FDX),號稱性能功耗指標堪比22nm FinFET,但是制造成本與28nmm相當,適用于物聯(lián)網(wǎng)、移動芯片、RF射頻、網(wǎng)絡芯片等,已經(jīng)拿下50多家客戶,2017年第一季度量產(chǎn)。

            現(xiàn)在,GF又宣布了全新的12nmFD-SOI(12FDX)工藝,計劃2019年投入量產(chǎn)。

            GF表示,12FDX工藝的性能等同于10nmFinFET,但是功耗和成本低于16nm FinFET,相比現(xiàn)有FinFET工藝性能提升15%,功耗降低50%,掩膜成本比10nmFinFET減少40%!

            它還將提供業(yè)界最寬泛的動態(tài)電壓,通過軟件控制晶體管大大提升設計彈性,在高負載時可提供最高性能,靜態(tài)時則具備更高能效。

            該工藝也是針對低功耗平臺的,包括移動計算、5G互連、人工智能、自動駕駛等等,中國中科院上海微電子研究所、NXP半導體、VeriSilicon半導體、CEATech、Soitec等都參與了合作。

            GF正在德國德累斯頓Fab 1晶圓廠推進12FDX工藝的研發(fā),預計2019年上半年完成首批流片,并在當年投入量產(chǎn)。

            簡單來說,GF現(xiàn)在是兩條腿走路:低功耗方面主打22/12DFX,尤其后者可以替代10nm FinFET;高性能方面直接進軍7nmFinFET。

           搶中國集成電路紅利,與重慶合建晶圓廠

            在今年五月份,重慶市與全球著名集成電路企業(yè)Global Foundries簽署諒解備忘錄,雙方將在重慶共同組建合資公司,生產(chǎn)300毫米芯片。


          格羅方德近年發(fā)展歷程梳理 從AMD分拆以后走過哪些路


            按照計劃,這個項目包括運用在Global Foundries新加坡工廠的成熟工藝技術,將一個現(xiàn)有半導體工廠升級為12英寸晶圓制造廠。這個合資企業(yè)將直接采購現(xiàn)代化先進設備節(jié)省產(chǎn)品上市時間,預計將于2017年投產(chǎn)。

            據(jù)悉,重慶市政府將提供土地與現(xiàn)有廠房,Global Foundries將負責技術的升級,現(xiàn)有廠房將從8 吋晶圓廠,提升為12 寸晶圓廠,根據(jù)消息,該現(xiàn)有廠房為臺灣DRAM 廠茂德出售的舊廠房,Global Foundries指稱,屆時將采新加坡廠的生產(chǎn)驗證技術。官方預計,該廠房于2017 年即可重新啟用、量產(chǎn),但GlobalFoundries未透露新廠采用的技術節(jié)點、初期產(chǎn)能等資訊。

            雖然GF在中國市場的進步比較緩慢,但最起碼也走出了重要的一步。

            展望

            作為AMD的緊密合作伙伴,當年AMD能夠和Intel一爭高下,其晶圓廠的貢獻功不可沒。最近GlobalFoundries似乎一直不盡順暢,但肉眼所看,這幾年無論在資金和技術方面,Global Foundries都在一直加大投入,F(xiàn)D-SOI方面也是進展喜人,早前更是宣布跳過10nm,直接進攻7nm。在中國的投資和合作更是堅定了Global Foundries重新崛起的決心是舉目可見的。至于未來表現(xiàn)如何,就留待時間驗證了。


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          關鍵詞: 格羅方德 AMD

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