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          看懂芯片后端報(bào)告 這篇文章最實(shí)用

          作者: 時(shí)間:2017-02-22 來源:知乎 收藏

            首先,我要強(qiáng)調(diào),我不是做后端的,但是工作中經(jīng)常遇到和做市場(chǎng)和的同事討論P(yáng)PA。這時(shí),后端會(huì)拿出這樣一個(gè)表格:

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201702/344323.htm

           

            上圖是一個(gè)A53的后端實(shí)現(xiàn)結(jié)果,節(jié)點(diǎn)是TSMC16FFLL+,我們就此來解讀下。

            首先,我們需要知道,作為一個(gè)有理想的手機(jī)公司,可以選擇的工廠并不多,臺(tái)積電(TSMC),聯(lián)電(UMC),三星,Global Foundries(GF),中芯(SMIC)也勉強(qiáng)算一個(gè)。還有,今年開始Intel工廠(ICF)也會(huì)開放給ARM處理器。事實(shí)上有人已經(jīng)開始做了,只不過用的不是第三方的物理庫。通常新工藝會(huì)選TSMC,然后要降成本的時(shí)候會(huì)去UMC。GF一直比較另類,保險(xiǎn)起見不敢選,而三星不太理別人所以也沒人理他。至于SMIC,嘿嘿,那需要有很高的理想才能選。

            16nm的含義我就不具體說了,網(wǎng)上很多解釋。而TSMC的16nm又分為很多小節(jié)點(diǎn),F(xiàn)FLL+,F(xiàn)FC等。他們之間的最高頻率,漏電,成本等會(huì)有一些區(qū)別,適合不同的,比如手機(jī)芯片喜歡漏電低,成本低的,服務(wù)器喜歡頻率高的,不一而足。

            接下來看表格第一排,Configuration。這個(gè)最容易理解,使用了四核A53,一級(jí)數(shù)據(jù)緩存32KB,二級(jí)1MB,打開了ECC和加解密引擎。這幾個(gè)選項(xiàng)會(huì)對(duì)面積產(chǎn)生較大影響,對(duì)頻率和功耗也有較小影響。

            接下來是Performance target,目標(biāo)頻率。后端工程師把頻率稱作Performance,在做后端實(shí)現(xiàn)時(shí),必須在頻率,功耗,面積(PPA)里選定一個(gè)主參數(shù)來作為主要優(yōu)化目標(biāo)。這個(gè)表格是專門為高性能A53做的,頻率越高,面積和漏電就會(huì)越大,這是沒法避免的。稍后我再貼個(gè)低功耗小面積的報(bào)告做對(duì)比。

            下面是Current Performance,也就是現(xiàn)在實(shí)現(xiàn)了的頻率。里面的TT/0.9V/85C是什么意思?我們知道,在一個(gè)晶圓(Wafer)上,不可能每點(diǎn)的電子漂移速度都是一樣的,而電壓,溫度不同,它們的特性也會(huì)不同,我們把它們分類,就有了PVT(Process,Voltage, Temperature),分別對(duì)應(yīng)于TT/0.9V/85C。而Process又有很多Conner,類似正態(tài)分布,TT只是其中之一,按照電子漂移速度還可以有SS,S,TT,F(xiàn),F(xiàn)F等等。通常后端結(jié)果需要一個(gè)Signoff條件(我們這通常是SSG),按照這個(gè)條件出去流片,作為篩選門檻,之下的芯片就會(huì)不合格,跑不到所需的頻率。所以條件設(shè)的越低,良率(Yield)就會(huì)越高。但是條件也不能設(shè)的太低,不然后端很難做,或者干脆方程無解,跑不出結(jié)果。X86上有個(gè)詞叫體質(zhì),就是這個(gè)PVT。

            這一欄有四個(gè)頻率,上下兩組容易區(qū)分,就是不同的電壓。在頻率確定時(shí),動(dòng)態(tài)功耗是電壓的2次方,這個(gè)大家都知道。而左右兩組數(shù)字的區(qū)別就是Corner了,分別為TT和SSG。

            下一行是Optimization PVT。大家都知道后端EDA工具其實(shí)就是解方程,需要給他一個(gè)優(yōu)化目標(biāo),它會(huì)自動(dòng)找出最優(yōu)局部解。而1.0V和0.9V中必須選一個(gè)值,作為最常用的頻率,功耗和面積的甜點(diǎn)(Sweet Spot)。這里是選了1.0V,它的SSG和目標(biāo)要求更接近,那些達(dá)不到的Corner可以作為降頻賤賣。

            再下一行是漏電Leakage,就是靜態(tài)功耗。CPU停在那啥都不跑也會(huì)有這個(gè)功耗,它包含了四個(gè)CPU中的邏輯和一級(jí)緩存的漏電。但是A53本身是不包含二級(jí)緩存的,其他的一些小邏輯,比如SCU(Snooping Control Unit)也在CPU核之外,這些被稱作Non-CPU,包含在MP4中。我們待機(jī)的時(shí)候就是看的它,可以通過power gating關(guān)掉二三級(jí)緩存,但是通常來說,不會(huì)全關(guān),或者沒法關(guān)。

            下面是Dynamic Power,動(dòng)態(tài)功耗。基本上我見過的CPU在測(cè)量動(dòng)態(tài)功耗的時(shí)候,都是跑的Dhrystone。Dhrystone是個(gè)非常古老的跑分程序,基本上就是在做字符串拷貝,非常容易被軟件,編譯器和硬件優(yōu)化,作為性能指標(biāo)基本上只有MCU在看了。但是它有個(gè)好處,就是程序很小,數(shù)據(jù)量也少,可以只運(yùn)行在一級(jí)緩存(如果有的話),這樣二級(jí)緩存和它之后的電路全都只有漏電。雖然訪問二級(jí)三級(jí)緩存甚至DDR會(huì)比訪問一級(jí)緩存耗費(fèi)更多的能量,但是它們的延遲也大,此時(shí)CPU流水線很可能陷入停頓。這樣的后果就是Dhrystone能最大程度的消耗CPU核心邏輯的功耗,比訪問二級(jí)以上緩存的程序都要高。所以通常都拿Dhrystone來作為CPU最大功耗指標(biāo)。實(shí)際上,是可以寫出比Dhrystone更耗電的程序的,稱作Max Power Vector,做SoC功耗估算的時(shí)候會(huì)用上。

            動(dòng)態(tài)功耗和電壓強(qiáng)相關(guān)。公式里面本身就是2次方,然后頻率變化也和電壓相關(guān),在跨電壓的時(shí)候就是三次方的關(guān)系了。所以別看1.0V只比0.72V高了39%,最終動(dòng)態(tài)功耗可能是3倍。而頻率高的時(shí)候,動(dòng)態(tài)功耗占了絕大部分,所以電壓不可小覷。

            此外,動(dòng)態(tài)功耗和溫度相關(guān),SoC運(yùn)行的時(shí)候不可能溫度維持在0度,所以功耗通常會(huì)拿85度或者更高來計(jì)算,這個(gè)就不多說了。

            下一行是Area,面積。面積是芯片公司的立足之本,和毛利率直接相關(guān)。所以在性能符合的情況下,越小越好,甚至可以犧牲功耗,不惜推高電壓,所以有了OD(Over Drive)。有個(gè)數(shù)據(jù),當(dāng)前28nm上,每個(gè)平方毫米差不多是10美分的成本,一個(gè)超低端的手機(jī)芯片怎么也得30mm(200塊錢那種手機(jī)用的,可能你都沒見過,還是智能機(jī)),芯片面積成本就是3刀,這還不算封測(cè),儲(chǔ)存和運(yùn)輸。低端的也得是40mm(300塊的手機(jī))。我們常見的600-700塊錢的手機(jī),其中六分之一成本是手機(jī)芯片。當(dāng)然,反過來,也有人不缺錢的,比如蘋果,據(jù)說A10在16nm上做到了125mm,換算成這里的A53MP4,單看面積不考慮功耗,足足可以放120個(gè)A53,極其奢侈,這可是跑在2.8G的A53,如果是1.5G的,150個(gè)都可能做到。

            那蘋果這么大的面積到底是做什么了?首先,像GPU,Video,Display,基帶,ISP這些模塊,都是可以輕易的拿面積換性能的,因?yàn)榭梢圆⑿刑幚怼6?,功耗也可以拿面積換,一個(gè)最簡(jiǎn)單的方法就是降頻,增加處理單元數(shù)。這樣漏電雖然增加,但是電壓下降,動(dòng)態(tài)功耗可以減少很多。一個(gè)例外就是CPU的單核性能,為什么蘋果可以做到Kirin960的1.8倍,散熱還能接受?和物理庫,后端,前端,軟件都有關(guān)系。

            首先,A10是6發(fā)射,同時(shí)代的A73只用了2發(fā)射。當(dāng)然,由于受到了數(shù)據(jù)和指令相關(guān)性限制,性能不是三倍提升,而6發(fā)射的后果是面積和功耗非線性增加。作為一個(gè)比較,我看過ARM的6發(fā)射CPU模型,同工藝下,單核每赫茲性能是A73的1.8倍,動(dòng)態(tài)功耗估算超過2倍,面積也接近2倍。當(dāng)然,它的微結(jié)構(gòu)和A73是有挺大區(qū)別的。這個(gè)單核芯片跑在16nm,2.5Ghz,單核功耗差不多是1W。而手機(jī)芯片的功耗可以維持在2.5W不降頻,所以蘋果的2.3Ghz的A10算下來還是可行的。

            為了控制功耗,在做RTL的時(shí)候就需要插入額外晶體管,做Clock Gating,而且這還是分級(jí)的,RTL級(jí),模塊級(jí),系統(tǒng)級(jí),信號(hào)時(shí)鐘上也有(我看到的SoC時(shí)鐘通常占了整個(gè)邏輯電路功耗的三分之一)。這樣一套搞下來,面積起碼大1/3。然后就是Power Gating,也是分級(jí)的。最簡(jiǎn)單的是每塊緩存給一個(gè)開關(guān),模塊也有一個(gè)開關(guān)。復(fù)雜的根據(jù)不同指令,可以計(jì)算出哪些Cache bank短時(shí)間內(nèi)不用,直接給它關(guān)了。Power Gating需要的延時(shí)會(huì)比Clock Gating大,有的時(shí)候如果操作很頻繁,Power Gating反而得不償失,這需要仔細(xì)的考量。而且,設(shè)計(jì)的越復(fù)雜,驗(yàn)證也就越難寫,這里面需要做一個(gè)均衡。除了時(shí)鐘域,電源域,還有電壓域,可以根據(jù)不同頻率調(diào)電壓。當(dāng)然了,域越多,布線越難,面積越大。

            再往上,可以定義出不同的power state,讓上層軟件也參與經(jīng)來,形成電源管理和調(diào)度。我在這個(gè)回答里面寫的更詳細(xì)一些:如何評(píng)價(jià) ARM 的 big.LITTLE 大小核切換技術(shù)?

            再回到蘋果A10,它還使用了6MB的緩存。這個(gè)在手機(jī)里面也算大的驚世駭俗。通常高端的A73加2MB,A53加1MB,已經(jīng)很高大上了,低端的加起來也不超過1MB。我拿SPECINT2K在A53做過一些實(shí)驗(yàn),二級(jí)緩存從128KB增加到1MB只會(huì)增加15%不到的性能,到6MB那性能/面積收益更不是線性的,這是赤裸裸的面積換性能。而且蘋果宣揚(yáng)的不是SPECINT,而是GeekBench4.0,我懷疑是不是這個(gè)跑分對(duì)緩存大小更敏感,有空可以做做實(shí)驗(yàn)。順帶提一句,安兔兔5.0和緩存大小沒半毛錢關(guān)系,這讓廣大高端手機(jī)芯片公司情何以堪。到了6.0似乎改了,我還沒仔細(xì)研究過。至于使用了大面積緩存引起的漏電,倒是有辦法解決,那就是部分關(guān)閉緩存,用多少開多少,是個(gè)精細(xì)活,需要軟硬件同時(shí)配合。

            影響面積的因素還沒完,上面只是前端,后端還有一堆考量呢。

            首先就是表格下一排,Metal Stack。芯片制造的時(shí)候是一層層蝕刻的,而蝕刻的時(shí)候需要一層層打碼,免得關(guān)鍵部分見光,簡(jiǎn)稱Mask。這里的11m就表示有11層。晶體管本身是在最底層的,而走線就得從上面走,層數(shù)越多越容易,做板子布線的同學(xué)肯定一看就明白了。照理說這就該多放幾層,但是工廠跟你算錢也是按照層數(shù)來的,越多越貴。層數(shù)少了不光走線難,總體面積的利用率也低,像A53,11層做到80%的利用率就挺好了。所以芯片上不是把每個(gè)小模塊面積求和就是總體面積,還得考慮布局布線(PR,Placing&Routing),考慮面積利用率。

            再看表格下兩排,Logic Architecture和Memory。這個(gè)也容易理解,就是邏輯和內(nèi)存,數(shù)字電路的兩大模塊分類。這個(gè)內(nèi)存是片上靜態(tài)內(nèi)存,不是外面的DDR。uLVT是什么意思呢,Ultra Low Voltage Threshold,指的是標(biāo)準(zhǔn)邏輯單元(Standard Cell)用了超低電壓門限。電壓低對(duì)于動(dòng)態(tài)功耗當(dāng)然是個(gè)好事,但是這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元的漏電也很高,和頻率是對(duì)數(shù)關(guān)系,也就是說,漏電每增加10倍,最高頻率才增加log10%。后端可以給EDA工具設(shè)一個(gè)限制條件,比如只有不超過1%的需要沖頻率的關(guān)鍵路徑邏輯電路使用uLVT,其余都使用LVT,SVT或者HVT(電壓依次升高,漏電減小),來減小總體漏電。


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