UNITYSC新型納米形貌量測平臺突破光學(xué)測量界限

　　FOGALE Nanotech Group 的全資子公司 UnitySC，作為先進(jìn)半導(dǎo)體封裝檢測和量測解決方案的領(lǐng)導(dǎo)者，今天在上海 SEMICON 中國推出新的 NST 系列。NST 系列是世界上首個(gè)用于在大批量制造中精確量測半導(dǎo)體晶片納米級表面形貌的非接觸式量測解決方案。新平臺實(shí)現(xiàn)了更高的晶片成品率和產(chǎn)量，并針對下一代圖像傳感器和存儲器技術(shù)實(shí)施改良後的高級工藝提供更先進(jìn)的解決方案。

　　先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的性能要求不斷提高，推動了對精確、高通量在線量測的需求。這在銅化學(xué)機(jī)械平坦化 (Cu CMP) 工藝、銅對銅晶片混合鍵合工藝前和后以及任何類型的前端化學(xué)機(jī)械平坦化和蝕刻工藝等亦都是如此，這些都是推動半導(dǎo)體工業(yè)朝向更高效制造發(fā)展的必要條件。

　　UnitySC 首席執(zhí)行官 Gilles Fresquet 說：“我們根據(jù)行業(yè)和客戶表達(dá)的需求開發(fā)了 NST 系列?！薄暗谝慌_設(shè)備于 2016 年底交付給一個(gè)關(guān)鍵客戶兼合作伙伴，現(xiàn)已投入使用。預(yù)計(jì)今年該系列會大量出貨。我們相信，這是工藝控制能力在成品率和生產(chǎn)量的一次變革，這將影響所有半導(dǎo)體形貌測量應(yīng)用，特別是高級 CMOS 圖像傳感器(CIS)和 3D 存儲器堆棧?！?/p>

　　“CIS是率先直接利用 3D 混合鍵合技術(shù)開發(fā)成果的行業(yè)。根據(jù)我們最新的技術(shù)和市場分析，這種混合鍵合技術(shù)的重要性將在 2017 年超過 10 億美元，并將在 2022 年之前將 CIS 市場的復(fù)合年增長率翻一番，提高至 20%，”Yole Développement 影像活動負(fù)責(zé)人 Pierre Cambou 說道?！癠nitySC 憑借其新的 NST 系列納米形貌量測平臺，從容應(yīng)對這一不斷發(fā)展的市場?！?1)

　　UnitySC 的 NST 系列半導(dǎo)體測量設(shè)備優(yōu)于傳統(tǒng)光學(xué)干涉量測，因其不受表面透明層的影響。NST 系列更超越了接觸輪廓量測法，達(dá)到原子力顯微鏡級性能。分辨率低至 0.1nm 的非接觸式全場輪廓測定法捕獲無偽影區(qū)域掃描，以快于現(xiàn)有解決方案的速度提供關(guān)鍵信息。流水線制備工藝省去了主流技術(shù)所要求，在混合鍵合流程之前控制晶片表面質(zhì)量的CMP后金屬沉積步驟，從而減少晶片廢料并實(shí)現(xiàn)更高的成品率。此外，NST 是唯一為銅對銅混合鍵合應(yīng)用中的鍵合后計(jì)量提供疊對功能的量測平臺。

　　NST 平臺目前提供兩種配置：

　　· NST XP 系統(tǒng)為單芯片或多芯片表面拓?fù)涮峁┒喙δ?、高速度和高精度的非接觸全場輪廓測定法。能夠執(zhí)行廣泛的量測，例如凹陷、腐蝕、臨界尺寸、階高、深溝槽和粗糙度。

　　· NST Bond 平臺是一個(gè)全面的混合鍵合量測解決方案，它將原有NST XP 的功能與銅化學(xué)機(jī)械平坦化和銅對銅鍵合工藝之后的高分辨率測量的附加功能結(jié)合在一起，包括面內(nèi)和面外疊對測量。

　　2017 年 3 月 14-16 日，UnitySC 將參展在上海新國際博覽中心的 SEMICON 中國。屆時(shí)歡迎光臨 W5 廳的 5375 號展位了解詳細(xì)情況，或者發(fā)送電子郵件給 Yann Guillou 安排會面。