EUV需求看俏 ASML頻傳捷報

　　全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財報。ASML表示，由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準備將EUV導入芯片量產(chǎn)階段，EUV光刻機目前第二季已累積27臺訂單總計28億歐元。

　　ASML 第二季營收凈額 (net sales)21億歐元，毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。

　　ASML預估2017第三季營收凈額(net sales)約為22億歐元，毛利率(gross margin)約為43%。因為市場需求和第二季的強勁財務表現(xiàn)，ASML預估2017全年營收增長可達25%。

　　ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得Peter Wennink表示，ASML今年的主要營收貢獻來自內(nèi)存芯片客戶，尤其在DRAM市場需求的驅動下，這部分的營收預估將比去年增長50%，而來自邏輯芯片方面的營收也可望增長15%。

　　此外，ASML近年來積極推行系統(tǒng)升級業(yè)務，該部分的營收貢獻可望在今年成長 20%。Peter Wennink指出，綜合市場和各業(yè)務領域“捷報”，認為這一成長動能將可延續(xù)到2018年。

　　在產(chǎn)品線方面，深紫外光( DUV )光刻推出最新浸潤式光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXT: 2000i，具備多項硬件技術創(chuàng)新，讓客戶得以在7納米和5納米制程節(jié)點上，同時用浸潤式光刻和EUV系統(tǒng)進行量產(chǎn)，并達到2.5納米的迭對精度( on-product overlay )。

　　另一方面，3D NAND客戶對于KrF干式光刻系統(tǒng)的需求持續(xù)升高，目前 TWINSCAN XT:860的未出貨訂單已累積超過20臺。TWINSCAN XT:860系統(tǒng)的生產(chǎn)力可達到每天曝光5,300片晶圓。

　　極紫外光( EUV )光刻機方面，荷蘭總部已經(jīng)成功升級的EUV光源整合進 NXE:3400B系統(tǒng)中，并達成每小時輸出125片晶圓的生產(chǎn)力指標。日前ASML則宣布EUV光源已可達250W，已突破最關鍵的量產(chǎn)技術環(huán)節(jié)。ASML預計在第三季會有3臺NXE:3400B EUV光刻系統(tǒng)完成出貨。

　　至此，ASML指出，EUV系統(tǒng)已經(jīng)成功達成所有計劃中的關鍵效能指標，下一階段，將專注于達成滿足客戶在量產(chǎn)時所需的相關可靠度(availability) 指標，并持續(xù)提升系統(tǒng)生產(chǎn)力。

　　展望2017年第三季，ASML預估整體銷售凈額可達22億歐元，毛利率約落在 43%，其中包含約3億歐元的EUV營收認列。