Entegris攜最新產(chǎn)品亮相Semicon Taiwan，提供整合解決方案應(yīng)對未來制造挑戰(zhàn)

　　隨著先進制程的不斷推進，從14nm、10nm到將來的7nm、3nm，在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的微粒也越來越小，怎樣去找到這些極微小的微粒將是未來半導(dǎo)體制造商面臨的一個非常大的挑戰(zhàn)。近日，領(lǐng)先特殊材料供應(yīng)商Entegris參加了在Semicon Taiwan，同時發(fā)布了幾款全新產(chǎn)品，其全球銷售副總裁謝俊安也與臺灣媒體進行了交流。

　　謝俊安首先介紹了Entegris的三個主要事業(yè)部，分別為電子材料部分，主要提供尖端氣體、沉積的解決方案以及一些化學(xué)清洗類產(chǎn)品;第二個是微污染控制，主要的產(chǎn)品為用于水、氣體以及化學(xué)方面的濾芯濾材;另外一個部分是主管運輸方面的部門，可提供一些晶圓、化學(xué)品以及在客戶工廠端的誰、氣體和化學(xué)方面的運輸解決方案。各個事業(yè)部可以單獨提供服務(wù)給客戶，也可以根據(jù)客戶需要，提供綜合的在解決方案。謝俊安表示：“隨著制程技術(shù)的不斷復(fù)雜，污染控制面臨的挑戰(zhàn)也越來越嚴(yán)峻?！?nbsp;他列舉了一個有趣的例子，找出現(xiàn)在的制程中的微粒就如在整個臺灣找出兩個1元硬幣。而在半導(dǎo)體進行制造的過程中，每個環(huán)節(jié)都有可能產(chǎn)生污染，而Entegris的解決方案可以覆蓋各個環(huán)節(jié)。如客戶在制造氣體過程中，Entegris可以提供解決方案，而在這些氣體運輸?shù)倪^程中，這些強酸強堿可能會侵蝕塑膠品，可能會產(chǎn)生微污染， Entegris可以提供綜合的解決方案給到客戶，覆蓋半導(dǎo)體生態(tài)圈的各個部分，確保每個環(huán)節(jié)的安全性。

　　近期，Entegris剛剛還擴建了其臺灣的技術(shù)中心，加入了全新的微污染物分析與技術(shù)開發(fā)能力。謝俊安表示：“Entegris原本在臺灣就有一個化學(xué)CAP中心和一個濾芯濾材中心，此次新的技術(shù)中心就是結(jié)合了原有的兩個中心，并進行擴建，可以達到很好的綜合效果?！按舜螖U展共投資了850萬美元，用于擴展三個方面：一是1000級的無塵室;二是擴大5倍的實驗室空間;三是進行設(shè)施裝修和設(shè)備升級。謝俊安表示：”新的技術(shù)中心將Entegris在液體過濾、特殊用化學(xué)品和CMP領(lǐng)域的核心技術(shù)整合，提供更完整的分析服務(wù)與技術(shù)開發(fā)解決方案，滿足隨著制程推進已經(jīng)器件不斷小型化所帶來的制造挑戰(zhàn)。“

　　在Semicon Taiwan期間，Entegris同時發(fā)布了3款最新產(chǎn)品，它們分別為Integra? Plus WS(堰式閥)高流量流體管理閥門、Oktolex? 薄膜技術(shù)以及GateKeeper? GPU(氣體純化裝置)腐蝕性氣體純化器。其中Integra? Plus WS針對半導(dǎo)體制程應(yīng)用中的腐蝕性化學(xué)品所設(shè)計，采用創(chuàng)新、單件且黏著劑的隔膜設(shè)計，其流體效能比競爭對手適用于超純度大量化學(xué)品和CMP研磨液應(yīng)用的閥高出70%。而Oktolex? 薄膜技術(shù)可應(yīng)用于先進的使用點光微影技術(shù)，它可針對各種化學(xué)品的需求，強化各種薄膜原本的攔截機制，過濾重要的光化學(xué)污染物。最后的GateKeeper? GPU腐蝕性氣體純化器采用了Entegris的高階媒介，可同時去除18種不同其體內(nèi)的濕氣并捕捉揮發(fā)性金屬微粒，有助于提升晶圓產(chǎn)能。