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          Gigaphoton發(fā)布新的DUV光源產(chǎn)品規(guī)劃圖

          作者: 時(shí)間:2017-11-17 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

            半導(dǎo)體光刻光源的主要供應(yīng)商株式會(huì)社(母公司:栃木縣小山市,董事長(zhǎng):浦中克己)宣布,為提高設(shè)備的工作效率,公司將制定新的產(chǎn)品規(guī)劃圖,以應(yīng)對(duì)需求量不斷高漲的半導(dǎo)體廠家的要求。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201711/371597.htm

            此次制定的產(chǎn)品規(guī)劃圖“RAM Enhancement”加強(qiáng)了光源受激準(zhǔn)分子激光器的可靠性(Reliability)、可用性(Availability)以及可維護(hù)性(Maintainability)。公司已經(jīng)開(kāi)始行動(dòng),將在2020年前打破被業(yè)界定位為極限的“工作效率99.8%的壁壘”。

            在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中,光刻工序的工作效率是最大的影響要素。因此,為最大限度地提高設(shè)備的工作效率,必須保證“長(zhǎng)期穩(wěn)定的工作”,以及“最短的維修時(shí)間”。為解決這些問(wèn)題,將延長(zhǎng)模塊壽命,派遣現(xiàn)場(chǎng)工程師提高設(shè)備的服務(wù)性能,實(shí)現(xiàn)盡可能不停止設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)的維修。

            首先,為保證“長(zhǎng)期穩(wěn)定的工作”,將最新ArF液浸光刻裝置的主要模塊,包括腔體(AMP CH)、窄帶域模塊(LNM)、監(jiān)視模塊(MM)的壽命分別延長(zhǎng)到120Bpls。其次,為實(shí)現(xiàn)“最短的維修時(shí)間”,將追加預(yù)測(cè)裝置壽命及自動(dòng)計(jì)算維修時(shí)點(diǎn)的軟件。

            通過(guò)這一系列的措施,截止2020年,面向所有客戶的必要維修次數(shù)將降低到每年一次,模塊更換時(shí)間減少到原來(lái)的一半,可望打破工作效率99.8%的壁壘。(假定內(nèi)存芯片廠家的脈沖使用量為每年60Bpls。)

            Gigaphoton董事長(zhǎng)浦中克已評(píng)價(jià)說(shuō):“由于近年來(lái)半導(dǎo)體芯片的需求量高,半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的工作效率愈發(fā)重要。我們推行的產(chǎn)品規(guī)劃‘RAM Enhancement’就是為滿足這樣的客戶需求而制定的。今后,Gigaphoton也將結(jié)合客戶需求和市場(chǎng)動(dòng)向,繼續(xù)提供最合適的解決方案。”



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