摩爾定律:始于半導(dǎo)體 終于物理極限?
在信息技術(shù)發(fā)展浪潮中,浪潮涌起的高度的衡量一度成為業(yè)界的“心患”。換句話說(shuō),如何估量信息技術(shù)進(jìn)步的速度成了困擾業(yè)內(nèi)人士許久的難題。籍此背景之下,英特爾創(chuàng)始人之一戈登·摩爾通過(guò)大量數(shù)據(jù)調(diào)研整理,于1965年,正式提出“摩爾定律”。迄今為止,此定律已歷經(jīng)了半世紀(jì)風(fēng)雨,對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,更是產(chǎn)生了不可磨滅的作用。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201711/372219.htm何為“摩爾定律”?
在文章《讓集成電路填滿更多的組件》中,摩爾預(yù)言,半導(dǎo)體芯片中集成的晶體管和電阻數(shù)量將每年增加一倍。隨后不久,摩爾另外撰寫論文聲明,將“每年增加一倍”修改為“每?jī)赡暝黾右槐丁?。詳?xì)地說(shuō),摩爾定律即為:當(dāng)價(jià)格不變時(shí),半導(dǎo)體芯片中可容納的元器件數(shù)目,約兩年便會(huì)增加一倍,其性能也將同比提升。
當(dāng)然,通過(guò)后來(lái)數(shù)十年的數(shù)據(jù)證明,半導(dǎo)體芯片中可容納的元器件數(shù)目,約18個(gè)月便將增加一倍(即摩爾前后預(yù)測(cè)的平均值)。對(duì)于此,摩爾表示,他并未提過(guò)“每18個(gè)月增加一倍”推論,而且根據(jù)其數(shù)據(jù)圖顯示,這個(gè)變化周期便是24個(gè)月。
事實(shí)上,作為一種對(duì)發(fā)展趨勢(shì)的分析預(yù)測(cè)規(guī)則,摩爾定律一直在質(zhì)疑與自我證明中徘徊。由于集成度與晶體管價(jià)格成反比的特性,使得摩爾定律成為了經(jīng)濟(jì)學(xué)效益的一種推測(cè)手段。以晶圓廠生產(chǎn)IC為例,在制程技術(shù)不斷進(jìn)步的前提下,每隔18個(gè)月,IC的產(chǎn)量將提升一倍,換個(gè)角度來(lái)看,其成本將降低50%。與此同時(shí),在半導(dǎo)體行業(yè)制程技術(shù)發(fā)展的過(guò)程中,摩爾定律漸漸成為衡量半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展腳步的一道標(biāo)桿,如果每個(gè)18個(gè)月半導(dǎo)體企業(yè)的制程工藝未達(dá)到摩爾定律預(yù)測(cè)的數(shù)據(jù),那么對(duì)不起,有可能你已經(jīng)“Out”了(即落后于目前半導(dǎo)體行業(yè)的平均水平),從這方面來(lái)看,這種推測(cè)方式對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)的經(jīng)濟(jì)效益研究起到了一種良好的輔助作用。
摩爾定律的質(zhì)疑與自我證明
迄今為止,摩爾定律“問(wèn)世”已然五十載有余,在半導(dǎo)體芯片制程工藝水平飛速提升的同時(shí),人們不禁有些疑問(wèn),半導(dǎo)體芯片單位面積可集成的元件數(shù)量最終將達(dá)到多少?摩爾定律會(huì)一直存在下去嗎?
其實(shí),半導(dǎo)體芯片單位面積可集成的元件數(shù)量最終將達(dá)到多少這個(gè)問(wèn)題并沒(méi)有明確的答案,但據(jù)專家預(yù)測(cè),半導(dǎo)體芯片制程工藝的物理極限為2-3nm,以此推算,摩爾定律似乎也只能“存活”10年之久。
摩爾定律會(huì)不會(huì)過(guò)時(shí)?摩爾定律還能生產(chǎn)多久?這個(gè)話題已經(jīng)探討了數(shù)十年之久,比如當(dāng)半導(dǎo)體芯片主流制程技術(shù)為90nm時(shí),有人認(rèn)為45nm將成為物理極限;當(dāng)制程技術(shù)達(dá)到45nm時(shí),有的觀點(diǎn)認(rèn)為22nm將成為極限。有句俗語(yǔ)叫作“好刀不怕磨”,摩爾定律正是這把好刀。
那么何為物理極限呢?從技術(shù)方面來(lái)看,隨著晶體管尺寸的不斷縮小,源極和漏級(jí)之間的漏電現(xiàn)像會(huì)增大,從而導(dǎo)致晶體管無(wú)法正常工作?;诖谁h(huán)境之下,三星推出的3D晶體管技術(shù),很好的解決了此問(wèn)題,這也使得制程工藝再進(jìn)一步,從而逐漸達(dá)到如今的10nm。
在今年9月份舉辦的“英特爾精尖制造日”峰會(huì)中,英特爾以14nm和10nm制程工藝為例,通過(guò)其晶體管密度以及成本對(duì)比,再一次體現(xiàn)出了摩爾定律的準(zhǔn)確度。英特爾高級(jí)院士、技術(shù)與制造事業(yè)部制程架構(gòu)與集成總監(jiān)Mark Bohr也表示,在技術(shù)層面,英特爾依舊堅(jiān)守Tick-Tock戰(zhàn)略,這也是摩爾定律最好的體現(xiàn)。
摩爾定律的影響
起初,摩爾定律的提出只為預(yù)測(cè)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展趨勢(shì),但是隨著其在半導(dǎo)體行業(yè)的聲名鵲起,外界各行各業(yè)對(duì)于競(jìng)相仿效,從而衍生出多版本的“摩爾定律”,其深遠(yuǎn)影響使我們的生活獲益良多。
在經(jīng)濟(jì)方面,隨著制程工藝的逐漸提升,晶體管體積也越來(lái)越小,但性能卻得到了較大的提升,成本也隨之不斷降低。
在技術(shù)方面,摩爾的推演總結(jié)將復(fù)雜、昂貴的計(jì)算普及為生活的必需品,從數(shù)據(jù)分析,目前這些的創(chuàng)新都源于摩爾的發(fā)現(xiàn)。
在社會(huì)影響方面,計(jì)算的普及改變了我們的生活方式,也推動(dòng)了科技以及社會(huì)的發(fā)展,這對(duì)于各行各業(yè)來(lái)說(shuō),都是一大幸事。
摩爾定律會(huì)否消亡?
事實(shí)上,自摩爾定律被推出后,其存亡時(shí)間一直是業(yè)界所爭(zhēng)論不休的話題。以如今來(lái)說(shuō),當(dāng)半導(dǎo)體行業(yè)無(wú)數(shù)業(yè)內(nèi)人士發(fā)聲表示,摩爾定律將消亡時(shí),科技界卻爆出一則驚人消息:1nm制程工藝“問(wèn)世”。這則消息是由勞倫斯伯克利國(guó)家實(shí)驗(yàn)室傳出的,其實(shí)驗(yàn)室研究人員阿里·加維表示:“此項(xiàng)研究說(shuō)明,我們的晶體管將不再局限5nm柵極,如果使用適當(dāng)?shù)陌雽?dǎo)體材料,摩爾定律將繼續(xù)有效?!?/p>
據(jù)了解,加維所說(shuō)的適當(dāng)?shù)陌雽?dǎo)體材料為二硫化鉬,硅材料在柵極長(zhǎng)度為5nm甚至更長(zhǎng)時(shí),其優(yōu)勢(shì)相當(dāng)明顯,但其柵極長(zhǎng)度在5nm之下時(shí),將會(huì)產(chǎn)生“隧道效應(yīng)”,從而阻止電流從源極流向漏極。這種情況將會(huì)使電子失控,無(wú)法達(dá)到我們想要的效果。而二硫化鉬則有所不同,在此環(huán)境之下,它流動(dòng)的電子更重,所以可以通過(guò)更短的柵極來(lái)控制電流從源極流向漏極。通過(guò)一系列實(shí)驗(yàn)測(cè)試,勞倫斯伯克利國(guó)家實(shí)驗(yàn)室研究人員摒棄傳統(tǒng)的光刻技術(shù),選擇1nm的碳納米管作為柵極,從而更好的配合二硫化鉬晶體管控制其電子流動(dòng)。
這則實(shí)驗(yàn)研究成果再次證明了摩爾定律依舊存在,而從目前來(lái)看,似乎摩爾定律的消亡直接取決于半導(dǎo)體芯片制程工藝的物理極限。如果半導(dǎo)體芯片制程工藝未達(dá)極限,那么摩爾定律將一直“活著”。其實(shí),摩爾定律雖然源于半導(dǎo)體行業(yè),但并不會(huì)終止于半導(dǎo)體行業(yè),其思想與觀點(diǎn)奠定了所有現(xiàn)代技術(shù)豐富的基礎(chǔ),其創(chuàng)新的相關(guān)產(chǎn)品已經(jīng)完美的與我們生活融合在一起。未來(lái),它將代表一種趨勢(shì)一直存在于物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療以及教育等各個(gè)領(lǐng)域。
評(píng)論