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          中微發(fā)布第一代電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備Primo nanova?

          作者: 時間:2018-03-13 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          ——用于制造最先進的存儲和邏輯芯片

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201803/376835.htm


          中國上海,2018313——設(shè)備(上海)有限公司(以下簡稱“”)在本周舉辦的SEMICON China期間正式發(fā)布了第一代電感耦合等離子體設(shè)備Primo nanova?,用于大批量生產(chǎn)存儲芯片和邏輯芯片的前道工。該設(shè)備采用了具有自主知識產(chǎn)權(quán)的電感耦合等離子體技術(shù)和許多創(chuàng)新的功能,以幫助客戶達到芯片制造工藝的關(guān)鍵指標(biāo),例如關(guān)鍵尺寸(CD的精準(zhǔn)度、均勻性和重復(fù)性等。其創(chuàng)新的設(shè)計包括:完全對稱的反應(yīng)腔,超高的分子泵抽速;獨特的低電容耦合線圈設(shè)計和多區(qū)細分溫控靜電吸盤(ESC)。憑借這些特性和其他獨特功能,該設(shè)備將為7納米、5納米及更先進的器件刻蝕應(yīng)用提供比其他同類設(shè)備更好的工藝加工能力,和更低的生產(chǎn)成本。

          中微 Primo nanova?刻蝕機得多家客戶訂單,設(shè)備產(chǎn)品已陸續(xù)付運。中微首臺Primo nanova?設(shè)備已在客產(chǎn)線上正常運行,良率穩(wěn)定。目前公司正在和更多客戶合作,進行刻蝕評估。在中微提供了一系列容耦合等離子體刻蝕設(shè)備之后,這一電感耦合等離子體刻蝕新設(shè)備大大了中微的刻蝕產(chǎn),能涵蓋大多數(shù)芯片前段的刻蝕應(yīng)用。

          當(dāng)今芯片制造所采用的新材料、新的器件結(jié)構(gòu)、雙重模板以至四重模板工藝和其他新的技術(shù)正在推動器件尺度的不斷縮小,這使得芯片的制造越來越復(fù)雜。中微開發(fā)Primo nanova? 時,充分考慮了在這種苛刻的加工環(huán)境中,如何使刻蝕達到在晶圓片內(nèi)更好的刻蝕均勻性和實時的控制能力、為芯片制造提供更寬的工藝窗口,以達到客戶日益提高的技術(shù)要求,并實現(xiàn)較低的制造成本。

          Primo nanova?采用了當(dāng)下最先進的等離子體刻蝕技術(shù),前沿客戶提供更具創(chuàng)新、更靈活的解決方案”中微副總裁兼等離子體刻蝕產(chǎn)品部總經(jīng)理倪圖強博士說道,“該設(shè)備不僅能夠用于多種導(dǎo)體刻蝕工藝,比如淺溝槽隔離刻蝕(STI)、多晶硅柵極刻蝕;同時可用于介質(zhì)刻蝕,如間隙壁刻蝕(Spacer Etch)、掩??涛g(Mask Etch)、回刻蝕(Etch Back)等,具有業(yè)界領(lǐng)先的生產(chǎn)率和卓越的晶圓內(nèi)加工性能。這項基于電感耦合等離子體的刻蝕技術(shù)既可以用于刻蝕垂直深孔,也可以用于刻蝕淺錐形輪廓。此外,由于這個設(shè)備占地面積小、減少了耗材的使用,有相當(dāng)大的成本優(yōu)勢。我們非常高興看到客戶已經(jīng)從該設(shè)備投入生產(chǎn)中獲益。”

          中微第一代電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備Primo nanova?

          Primo nanova?的關(guān)鍵技術(shù)特點和競爭優(yōu)勢

          Primo nanova?以獨特的四方形主機、可配置六個刻蝕反應(yīng)腔和兩個除膠反應(yīng)腔,它具有獨特的技術(shù)創(chuàng)新和極高的生產(chǎn)效率。這些技術(shù)創(chuàng)新點包括:

          ?具有自主知識產(chǎn)權(quán)的低電容耦合線圈設(shè)計,能夠?qū)﹄x子濃度和離子能量實現(xiàn)有效的獨立控制,這對更高的選擇性和軟刻蝕至關(guān)重要;

          ?采用了完全對稱的反應(yīng)腔設(shè)計、多區(qū)細分溫控靜電吸盤和動態(tài)晶圓邊緣耦合控制,從而帶來更好的均勻性。這種設(shè)計克服了一直以來在量產(chǎn)中難以解決的晶圓邊緣刻蝕的不均勻性問題;

          ?與同類設(shè)備相比具有超高分子泵抽速,以實現(xiàn)更寬的工藝窗口和更精確的形貌控制;

          ?具有自主創(chuàng)新的等離子體增強PVD特種材料的涂層、反應(yīng)腔內(nèi)壁溫度的精確控制和對反應(yīng)腔內(nèi)表面狀態(tài)的良好控制,可實現(xiàn)更高的工藝穩(wěn)定性并減少微粒。

          倪圖強博士進一步指出:“從客戶的反饋證實, Primonanova?提供了我們預(yù)期達到的晶圓加工能力和生產(chǎn)率,以及具有競爭優(yōu)勢的生產(chǎn)成本。它也是一款多功能的設(shè)備,使用最少的配置調(diào)整就可以變換適用于多種加工工藝。”

          Primo nanova?是中微公司的注冊商標(biāo)。









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