ASML出貨新光刻機NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝
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據外媒報道，光刻機霸主ASML(阿斯麥)已經開始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺深紫外光刻機)，可用于7nm和5nm節(jié)點。
本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/201808/390073.htmNXT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機的有效補充，畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。
同時，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產品，達到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)。
ASML將于本季度末開始量產Twinscan NXT：2000i，價格未披露。目前，NXE：3400B EUV光刻機的報價是1.2億美元一臺，傳統(tǒng)的ArF沉浸式光刻機(14nm節(jié)點)報價是7200萬美元之間， NXT：2000i肯定是在這兩者之間了。
最后簡單介紹下ASML公司，其脫胎于荷蘭飛利浦的光刻研發(fā)小組，2017年全球光刻機市場占比7成，是絕對的一哥，后面跟著的是佳能、尼康和上海微電子。
集成電路在制作過程中經歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關鍵，它是整個集成電路產業(yè)制造工藝先進程度的重要指標，即在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉移。(上刻出晶體管器件的結構和晶體管之間的連接通路。)
圖為NXE：3300 EUV光刻機
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