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          Entegris EUV 1010光罩盒展現(xiàn)極低的缺陷率，已獲ASML認證
          
						
          
				作者：
				時間：2018-08-20
				來源：電子產品世界
				
				
				
				
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          　　業(yè)界領先的特種化學及先進材料解決方案的公司Entegris(納斯達克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術進行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設備制造商之一的ASML密切合作而開發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認證，用于NXE:3400B等產品。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/201808/390806.htm
          　　隨著半導體行業(yè)開始更多地使用EUV光刻技術進行先進技術制程的大批量制造(HVM)，對EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要嚴格。Entegris的EUV 1010光罩盒已經過ASML的全面認證，可用于他們的最新一代光刻機，并展現(xiàn)了出色的EUV光罩保護性能，包括解決最關鍵的微粒污染挑戰(zhàn)。Entegris的EUV 1010也因此讓客戶能夠安全地過渡到最先進的光刻工藝所需的越來越小的線寬。
          　　為了在NXE:3400B光刻機中實現(xiàn)上述性能，Entegris開發(fā)了用于接觸光罩和控制環(huán)境的新技術。Entegris晶圓和光罩處理副總裁Paul Magoon表示：“Entegris EUV 1010代表了缺陷率改進方面的重大突破，得益于此，先進技術制程HVM的客戶可以專注于提高效率和產量。與ASML的共同開發(fā)和測試確保了EUV 1010符合最先進的EUV光刻機的要求?！?/p>
          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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          關鍵詞：
            			            Entegris
                        EUV
                        ASML
                        
            
          
            
			
          
		
          	
		

	

          
	
	
          
		
          
			
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