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          EUV技術(shù) 為摩爾定律延命

          作者: 時(shí)間:2019-02-26 來(lái)源:工商時(shí)報(bào) 收藏
          編者按:隨著晶片功能愈趨強(qiáng)大,在半導(dǎo)體制程愈趨復(fù)雜的情況下,摩爾定律的推進(jìn)已經(jīng)放緩,以臺(tái)積電、三星、英特爾等三大半導(dǎo)體廠目前采用的浸潤(rùn)式(immersion)微影及多重曝影(multi-patterning)技術(shù)來(lái)說(shuō),若要維持摩爾定律的制程推進(jìn)速度,晶片成本會(huì)呈現(xiàn)等比級(jí)數(shù)般飆升。也因此,能夠明顯減少晶片光罩層數(shù)的極紫外光(EUV)微影技術(shù),將可為摩爾定律延命。

            隨著晶片功能愈趨強(qiáng)大,在半導(dǎo)體制程愈趨復(fù)雜的情況下,的推進(jìn)已經(jīng)放緩,以臺(tái)積電、三星、英特爾等三大半導(dǎo)體廠目前采用的浸潤(rùn)式(immersion)微影及多重曝影(multi-patterning)技術(shù)來(lái)說(shuō),若要維持的制程推進(jìn)速度,晶片成本會(huì)呈現(xiàn)等比級(jí)數(shù)般飆升。也因此,能夠明顯減少晶片光罩層數(shù)的極紫外光()微影技術(shù),將可為延命。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201902/397936.htm

            摩爾定律除了每18~24個(gè)月可讓晶片中電晶體數(shù)量增倍的技術(shù)推進(jìn),還包含了經(jīng)濟(jì)層面上的益處。事實(shí)上,過(guò)去20年因?yàn)槟柖傻耐七M(jìn)順利,晶片的單位制造成本可以逐年降低,并造就了個(gè)人電腦的普及,以及智慧型手機(jī)的人手?jǐn)?shù)機(jī)的情況。若半導(dǎo)體市場(chǎng)沒(méi)有摩爾定律的存在,晶片的成本難以有效降低,要用1,000美元以下價(jià)格買到電腦或手機(jī)幾乎是不可能的事。

            不過(guò),因?yàn)榫瞥痰某掷m(xù)推進(jìn),電路要再進(jìn)行微縮的難度愈來(lái)愈高,成本的提升速度也愈來(lái)愈快。以目前業(yè)界普遍量產(chǎn)中的14/16奈米邏輯制程來(lái)看,設(shè)備的投資是28奈米的數(shù)倍,換算下來(lái)晶片單位制造成本的降幅已經(jīng)趨緩,而制程進(jìn)入10奈米或7奈米后,晶片成本幾乎降不下來(lái)。也就是說(shuō),摩爾定律推進(jìn)放緩,蘋果及三星等新款旗艦手機(jī)功能又要愈多,增加的晶片用量或功能要愈多,價(jià)格自然愈墊愈高。

            為了解決這個(gè)問(wèn)題,業(yè)界早在10年前就已經(jīng)在討論在浸潤(rùn)式微影技術(shù)之后,會(huì)不會(huì)有更好的技術(shù)來(lái)為摩爾定律延命。如今,隨著臺(tái)積電7+奈米進(jìn)入量產(chǎn),技術(shù)正式接棒演出,摩爾定律至少可再延續(xù)至3奈米或1奈米世代,雖說(shuō)先進(jìn)制程價(jià)格仍然居高不下,但長(zhǎng)期來(lái)看,基于摩爾定律發(fā)展的經(jīng)濟(jì)層面益處將可延續(xù)下去。

            日月光投控營(yíng)運(yùn)長(zhǎng)吳田玉曾指出,過(guò)去半導(dǎo)體業(yè)的創(chuàng)新就是摩爾定律,所以大家跟著走,但現(xiàn)在業(yè)界覺(jué)得摩爾定律的推進(jìn)變慢了,但以他來(lái)看不是變慢,而是業(yè)界降低成本(costdown)的本領(lǐng)不夠,導(dǎo)致摩爾定律的時(shí)間拉長(zhǎng),但摩爾定律另一個(gè)層面代表的經(jīng)濟(jì)定律卻沒(méi)有變。

            當(dāng)然,靠就要讓摩爾定律延續(xù)下去仍有許多挑戰(zhàn),除了制程上的微縮,具異質(zhì)晶片整合優(yōu)勢(shì)的系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)技術(shù),也被視為能讓摩爾定律持續(xù)下去的重要解決方案。也就是說(shuō),未來(lái)晶片不會(huì)是單一的晶片,而是一個(gè)次系統(tǒng)或微系統(tǒng)的概念,異質(zhì)整合將是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)另一重要發(fā)展方向。



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