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          臺(tái)積電營(yíng)收超預(yù)期,股價(jià)節(jié)節(jié)攀升超越英特爾,成為半導(dǎo)體行業(yè)第一

          作者: 時(shí)間:2019-10-12 來(lái)源:驅(qū)動(dòng)中國(guó) 收藏

          非常在線2019年10月9日消息,近日,半導(dǎo)體制造商公布了9月份營(yíng)收?qǐng)?bào)告,報(bào)告顯示,該公司2019年9月?tīng)I(yíng)收約為1021.7億元(約合237億元人民幣)同比增長(zhǎng)7.6%。同時(shí),宣布7納米制程技術(shù)(N7)超過(guò)一年時(shí)間的情況下,使用EUV技術(shù)的N7+良率與N7已相當(dāng)接近;6納米制程技術(shù)(N6)也將于2020年第1季試產(chǎn)、年底前量產(chǎn)。 受到諸多利好消息影響,的股價(jià)節(jié)節(jié)攀升,總市值達(dá)到2482億美元超越英特爾,成為半導(dǎo)體行業(yè)第一。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201910/405710.htm

          據(jù)臺(tái)積電稱(chēng),采用EUV光刻技術(shù)的N7+(7nm+)工藝已經(jīng)大批量的供應(yīng)客戶,但官方?jīng)]有透露具體的合作廠商,目前唯一可完全確認(rèn)的就是華為麒麟990 5G,AMD下一代Zen 3架構(gòu)將使用7nm+工藝。

          臺(tái)積電的EUV光刻技術(shù)技術(shù)是全行業(yè)首個(gè)商用EUV極紫外光刻技術(shù)的工藝,其EUV光刻機(jī)已經(jīng)能穩(wěn)定輸出日常生產(chǎn)需求的250W功率,完全滿足現(xiàn)在及未來(lái)新工藝的需求。7nm+是臺(tái)積電史上最快量產(chǎn)的工藝之一,并且良品率已經(jīng)達(dá)到了一年以前的7nm工藝的水平,N7+(7nm+)工藝將會(huì)給產(chǎn)品帶來(lái)15%-20%的晶體管密度提升,進(jìn)一步降低芯片功耗。

          目前,在半導(dǎo)體領(lǐng)域臺(tái)積電已經(jīng)一馬當(dāng)先走在的最前沿,其已經(jīng)在計(jì)劃量產(chǎn)6納米制程工藝,而其最大的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手三星,雖然此前在7nm工藝節(jié)點(diǎn)上引入EVU,但是產(chǎn)品的良品率始終困擾著三星,在進(jìn)度方面明顯和臺(tái)積電拉開(kāi)了差距。




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