臺(tái)媒：半導(dǎo)體設(shè)備廠翔名打入臺(tái)積電EUV供應(yīng)鏈
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【TechWeb】7月23日消息，據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道，臺(tái)灣半導(dǎo)體設(shè)備廠翔名打入了臺(tái)積電EUV（極紫外光刻）供應(yīng)鏈。
本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/202007/416092.htm臺(tái)積電
臺(tái)媒稱(chēng)，翔名切入臺(tái)積電5nm極紫外光（EUV）光罩盒表面處理業(yè)務(wù)，與EUV光罩盒大廠接洽合作機(jī)會(huì)，以獨(dú)家專(zhuān)利無(wú)電鍍鎳（ENP）表面處理技術(shù)來(lái)提升產(chǎn)品良率，目前該光罩盒廠正進(jìn)行評(píng)估測(cè)試，未來(lái)獲臺(tái)積電EUV制程指定產(chǎn)品入場(chǎng)門(mén)票機(jī)會(huì)大增。
為跨入5nm EUV光罩盒業(yè)務(wù)，翔名積極接觸光罩盒大廠尋求合作契機(jī)，提供無(wú)電鍍鎳／化學(xué)鎳（ENP，Electroless Nickel Plating）表面處理專(zhuān)利技術(shù)，可在金屬或塑料等固體基材表面上沉積一層均勻的鎳磷合金，使其EUV光罩盒不沾染、減少微粒工序，延長(zhǎng)產(chǎn)品生命周期。
有分析稱(chēng)，一旦取得EUV光罩盒表面處理業(yè)務(wù)，以臺(tái)積電光罩盒替換需求在近萬(wàn)套水準(zhǔn)，加上后續(xù)4nm及3nm陸續(xù)量產(chǎn)需求，翔名2021年?duì)I運(yùn)表現(xiàn)值得期待。
評(píng)論