華為+中科院攻關EUV光刻機？ASML華裔工程師：天方夜譚

9月16日，中國科學院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱，“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關。

白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此，首先要進行體制機制改革。他稱，目前已經(jīng)設立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學中心和特色所四類機構，目的是根據(jù)科研性質不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置。

“這個工作還沒有完，只是進行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構全部做完，全院100多研究所重新定位為90個左右的四類機構，這樣就完成了全部的體制機制改革?！卑状憾Y補充。

此外，白春禮還表示，面臨美國對中國高科技產業(yè)的打壓，未來十年將針對一些卡脖子的關鍵問題做一些新的部署。他強調，后續(xù)科學院將在“率先行動”的第二個階段目標中， “將‘卡脖子’的問題和國外出口管制的清單轉化為我們的任務清單?！?/p>

在中科院表態(tài)支持針對“卡脖子”問題進行攻關之后，9月17日下午，華為技術有限公司CEO任正非一行來訪中國科學院，與中科院的專家學者們舉行了座談交流會，就基礎研究及關鍵技術發(fā)展進行了探討交流。

在工作會談中，任正非簡要介紹了華為公司近年來取得的進展及未來的發(fā)展戰(zhàn)略。他表示，中科院作為國家在科學技術方面的最高學術機構，學科整體水平已進入世界先進行列，基礎研究和綜合交叉優(yōu)勢明顯，為國家發(fā)展做出了重要貢獻；建議科學家們繼續(xù)保持對科研的好奇心，國家進一步加大對數(shù)理化和化學材料等基礎研究的投入，推動產出更多重大科研成果；華為非常重視與中科院的合作，希望雙方在現(xiàn)有合作基礎上，針對新時期國內國際雙循環(huán)相互促進發(fā)展的新格局，以更加開放的態(tài)度加強各個層面的科技交流，向基礎性科學技術前沿領域拓展，共同把握創(chuàng)新機遇，推動科學家思想智慧和研究成果轉化為經(jīng)濟社會發(fā)展的強大動力，共同為創(chuàng)造人類美好未來做出更大貢獻。

白春禮表示，中科院與華為公司有著廣泛深厚的合作基礎，已經(jīng)開展了多層次、寬領域的務實合作，并產出了有顯示度的成果。他表示，作為國家戰(zhàn)略科技力量，中科院正在認真貫徹落實習近平總書記提出的“三個面向”“四個率先”要求，深入實施“率先行動”計劃；目前已完成“率先行動”計劃第一階段的總結評估，正在緊鑼密鼓地謀劃第二階段的工作，堅持問題導向、目標導向、成果導向，聚焦國家重大戰(zhàn)略需求，為促進經(jīng)濟社會發(fā)展提供有力科技支撐。他表示，華為是中國的品牌，更是民族的驕傲，取得了非凡的成就。他希望雙方繼續(xù)緊密合作，充分集聚中科院科技創(chuàng)新資源和華為企業(yè)優(yōu)質資源，圍繞未來技術發(fā)展趨勢，探索科技前沿，共同促進經(jīng)濟社會高質量發(fā)展。

對于中國科學院院長白春禮要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務清單進行公關的表態(tài)，以及華為創(chuàng)始人兼總裁任正非突然對于中科院的拜訪，外界有網(wǎng)友猜測，華為將會與中科院攜手，攻關EUV光刻機技術。

雖然，國內的上海微電子（SMEE）已經(jīng)有90nm光刻機，并且傳聞28nm光刻機明年就能推出。但是，其與ASML的EUV光刻機仍差距巨大。

而在此之前，業(yè)內就已有傳聞稱華為正在研發(fā)更為先進的EUV光刻機，而中科院在光刻機的關鍵技術和器件領域早已有相關布局。比如中科院長春光機所在光刻機所需的透鏡及曝光系統(tǒng)上早已有突破，而最新的消息也顯示，長春光機所在實驗室已經(jīng)搭建出了一套EUV光源設備。

那么，華為攜手中科院，能夠在EUV光刻機上實現(xiàn)突破嗎？

對于中國光刻機未來的發(fā)展，近日一位自稱是ASML華裔工程師的網(wǎng)友在網(wǎng)上發(fā)表了自己的看法。以下為原文：

大陸的半導體代工企業(yè)大概什么時候能超過臺積電？這個問題是說十年內，二十年內還是一百年內？

我目前就在ASML公司工作，做的就是最新一代的EUV光刻機。這么說吧，咱們先別說把（EUV）光刻機給造出來，就是把（EUV）光刻機給用好都是一件無比復雜的事情。

臺積電算是我們的客戶，我很佩服臺積電的工程師或者說他們整個的體系。他們對光刻機的使用達到了某種讓人欽佩的高度，多的東西涉及到保密不能談。

打個比方，如果臺積電是美國海軍擁有十艘十萬噸級核動力航母，中國芯片制造商大概就是中國海軍，而且是在遼寧艦未拖進港時期的中國海軍。

你說中國會不會有朝一日造出十萬噸級別的核動力航母？這個當然有可能，但是什么時候能造出來，這個真的不好說，需要天時地利人和都具備了才行。

這些條件包括或者可能包括：

國家要下大決心，要做好十幾年甚至二十年一直虧錢的準備；外部技術封鎖要有些松動（包括各種光學器件、光刻機、光刻膠等等……）；要有一流人才愿意給中國效力（比如錢學森這種大牛）；需要大量從業(yè)的工程師來進行過渡；三星、Intel，臺積電的某一家要出一個大問題，倒閉或者破產，這樣能讓出市場份額，給予中國公司發(fā)展機會；新技術恰好在國家大力投入的時候興起（實現(xiàn)彎道超車）；

講句心里話，有這個錢重新在中國建立起一家臺積電一樣的公司，還不如用這個錢直接收編臺積電。從成本上來看，后者很可能更加便宜。

要我說，臺積電這種巨無霸如果不是遇到芯片制造的重大革命，或者其他危機，中國企業(yè)很難超越！

我總有一種朦朦朧朧沒有根據(jù)的感覺，我覺得未來的芯片很可能不是硅片，而是碳，是石墨烯的某種應用。

所以，如果從大的籠統(tǒng)的方面來說，中國用新的芯片制造技術超越臺積電還是可能的。

大家可能對所謂芯片制造不太了解。這么說吧，如果歐洲一夜之間蒸發(fā)了，美國想要重新造出性能相似的光刻機來，至少需要五年！

所以中國要造新型EUV光刻機并不是中國單挑美國，而是中國單挑外國！別的不說，高性能的濾光片，對極端紫外線高反射率的鍍膜，耐用的商業(yè)激光器……沒有一個是中國自己能夠造出來的！更確切的說，不是中國造不出來，而是美國有很多也造不出來！

鍍膜、濾光片、半反半投鏡……這些技術低性能也就罷了，高性能的產品都是一年一年試出來的，歐洲起步早，試驗的多就是世界最強！

中國起步晚，短時間內就是造不出來。因為，沒有這些基礎器件，談造EUV光刻機就是天方夜譚！

所以造光刻機跟造航母不一樣，航母并沒有在全球的產業(yè)鏈里面。而光刻機是全球產業(yè)鏈整合出來的產品。針對中國的技術封鎖如果沒有松動，需要重復做的事情太多，絕非十年二十年，靠中國單打獨斗能成的。

假如大家還覺得市場、錢、政策能夠大躍進式地造出光刻機，那就是絕對錯誤的認識。

我覺得吧，承認某些東西自己確實不行，努力也不行，需要外國幫助，也不是什么壞事。盲目樂觀才會斷送自己的前程。

當然EUV作為新一代的技術能夠實現(xiàn)7nm、5nm的光刻，雖然更加先進，但是如果真的臺積電被迫不能給中國(內地)代工，我們依然可以使用老一點的技術。使用老一點的技術也足以保證國內正常的需要。這也是為什么國家在這個領域沒有那么大的動力和決心的一個原因。

總之呢，EUV光刻機可以看作是美元霸權的衍生品。美元霸權還在，中國就無法在這一領域取得重大突破。當且僅當EUV光刻機所需的基礎配件能夠自由進口到中國的時候，中國才有可能在這個領域有突破。

最后，我再強調一個概念！可以商用化的產品跟實驗室里能夠實現(xiàn)之間差了十萬八千里！實驗室里實現(xiàn)的意思是不考慮成本，不考慮穩(wěn)定性，能夠有那么一次或者兩次做成。

商用產品的概念是：穩(wěn)定、高效、可控、能賺錢！

就EUV光刻機來說，中國做得最好的大概是長春光機所，也就是搭建了一套實驗室的EUV光源設備，而且從技術的實現(xiàn)來看，他們選擇了另外一條技術路線，EUV輸出的可控性必然不足，商業(yè)化依然有巨大瓶頸。至于ASML現(xiàn)階段的技術，就算中國造出一模一樣的東西來，還有專利的麻煩在那里，要規(guī)避這一堆專利而商業(yè)化幾乎做不到。

這東西跟航母、戰(zhàn)斗機不一樣。航母，戰(zhàn)斗機你就算仿造別人的也沒法起訴侵犯專利。光刻機你要是用同樣的原理，光是賠專利侵權就要傾家蕩產。

總之呢，如果技術不革新，這一塊兒中國想要后來者居上幾乎做不到。至于臺積電，它是使用EUV光刻機的廠商，如果大陸都沒有EUV光刻機可用，談什么超越臺積電呢？