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          阿斯麥ASML全新EUV光刻機將于2021年中期發(fā)貨

          作者: 時間:2020-10-15 來源:《科創(chuàng)板日報》 收藏

          14日訊,《科創(chuàng)板日報》記者從獲悉,其公布了路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進機器匹配套準精度至1.1納米,并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202010/419226.htm


          關(guān)鍵詞: ASML EUV 光刻機

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