阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨
14日訊,《科創(chuàng)板日報》記者從ASML獲悉,其公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米,并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202010/419226.htm
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