蝕刻機和光刻機之間的區(qū)別，國產(chǎn)5nm蝕刻機取得臺積電認(rèn)證

最近5nm刻蝕機被炒的很火，網(wǎng)上鋪天蓋地的消息都在說，中國芯片已經(jīng)實現(xiàn)彎道超車，我國芯片將自給自足，不用擔(dān)心被卡脖子的問題了。其實這種說法是極其不專業(yè)的，純粹就是偷天換日、混淆視聽。

乍一看光刻機和蝕刻機非常接近，但是光刻機和蝕刻機卻不能混為一談，因為蝕刻只是制造芯片其中之一的環(huán)節(jié)罷了。而刻蝕機也只是諸多芯片制造設(shè)備其中之一。下面我給大家聊一下蝕刻機。

蝕刻機和光刻機其實就是完全不同的兩種設(shè)備，不論從功能還是結(jié)構(gòu)上來說都是天差地別，光刻機是整個芯片制造過程中最為核心的設(shè)備，芯片的制程是由光刻機決定的，而不是蝕刻機。

從工作原理上看光刻機和蝕刻機。

如果把制造芯片比喻成蓋房子，那么光刻機的作用就是把房子的結(jié)構(gòu)標(biāo)注在地上?？涛g機就是在光刻完成以后才登場的設(shè)備，也是光刻完成以后最為重要的設(shè)備之一?？涛g機最主要的作用就是按照光刻機已經(jīng)標(biāo)注好的線去做基礎(chǔ)建設(shè)，把不需要的地方給清除掉，只留下光刻過程中標(biāo)注好的線路。

從結(jié)構(gòu)上來看光刻機和蝕刻機。

光刻機的最主要的核心技術(shù)就是光源和光路，其光源和光路的主要組成部分有四個，光源、曝光、檢測、和其他高精密機械組成。對比之下，蝕刻機的結(jié)構(gòu)組成就要簡單很多，主要是等離子體射頻源、反應(yīng)腔室和真空氣路等組成。

從售價來看蝕刻機和光刻機。

ASML的EUV光刻機單臺售價高達1.2億美元，而蝕刻機的售價就要低很多了，每臺售價在幾十萬到幾百萬美元之間。

蝕刻機的相關(guān)工作原理我之前有發(fā)文，有感興趣的可以去我主頁去找，這里我也不再過多敘述。

國產(chǎn)蝕刻機就給我國半導(dǎo)體領(lǐng)域做了一個很好的榜樣，我國中微半導(dǎo)體研發(fā)出國際主流的5nm蝕刻機并取得臺積電的認(rèn)證后，美國商務(wù)部就把蝕刻機從對華出口限制清單上移除了。這充分說明了一件事情，只要自己有了核心技術(shù)，對手就沒法再打壓你。

總體來說，我國在半導(dǎo)體領(lǐng)域還相對比較落后，還有較長的路要走，但是只要我們堅持走下去，就一定可以看見彩虹。