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          包括光刻!美國禁運(yùn)6項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)

          作者: 時(shí)間:2020-10-26 來源:芯智訊 收藏

          近日美國商務(wù)部工業(yè)安全局(BIS)宣布將六項(xiàng)新興技術(shù)添加到《出口管理?xiàng)l例》(EAR)的商務(wù)部管制清單(CCL)中。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202010/419604.htm

          據(jù)了解,目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項(xiàng)。

          美國商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫道:“此舉是為了支持關(guān)鍵及新興技術(shù)這一國家戰(zhàn)略.”

          “關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國家戰(zhàn)略是保護(hù)美國國家安全,確保美國在軍事、情報(bào)和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重要戰(zhàn)略部署?!泵绹虅?wù)部部長(zhǎng)Wilbur Ross說道,并表示“美國商務(wù)部已經(jīng)對(duì)30多種新興技術(shù)的出口實(shí)施了管控,我們將繼續(xù)評(píng)估和確定未來還有哪些技術(shù)需要管控?!?/p>

          包括光刻!美國禁運(yùn)6項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)

          票選“對(duì)美國國家安全起到至關(guān)重要的作用”的6大技術(shù)出爐

          公告指出。最新的商業(yè)出口管制是依照2019年12月全體大會(huì)上達(dá)成的協(xié)議——《常規(guī)軍備和兩用物品及技術(shù)出口管制瓦森納協(xié)議》實(shí)施的。制定和實(shí)施對(duì)新興技術(shù)的多邊控制符合《2018年出口控制改革法案》(ECRA)的要求后,最終確定管控下列幾項(xiàng)新興和基礎(chǔ)性技術(shù)的出口將對(duì)美國國家安全起到至關(guān)重要的作用。

          本次被增列商業(yè)管制清單的六項(xiàng)新興技術(shù)為:

          - 混合增材制造/計(jì)算機(jī)數(shù)控工具;

          - 特定的計(jì)算軟件;

          - 用于為5nm生產(chǎn)精加工晶圓的某些技術(shù);

          - 有限的數(shù)字取證分析工具;

          - 用于監(jiān)測(cè)電信服務(wù)通信的某些軟件

          - 亞軌道航天器

          美國實(shí)施出口管制的六大技術(shù),都與芯片制造中最重要的設(shè)備機(jī)息息相關(guān),尤其是當(dāng)下5nm芯片已成為高端芯片時(shí)代的主流產(chǎn)品,EUV機(jī)在半導(dǎo)體制程的重要意義可想而知。

          “用于制造極紫外線掩模的計(jì)算光刻技術(shù)軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件,包括與三維(3D)效應(yīng)、掩模陰影效應(yīng)、光照方向效應(yīng)、遠(yuǎn)距離眩光效應(yīng)、鄰近效應(yīng)、抗蝕劑中的隨機(jī)性效應(yīng)以及源掩模優(yōu)化有關(guān)的軟件,這類軟件是在晶圓上做出經(jīng)過優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件;而“用于為5nm生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)”旨在應(yīng)用于面向5nm生產(chǎn)的晶圓,包括對(duì)直徑300 mm的硅晶圓進(jìn)行切片、打磨和拋光以達(dá)到某些標(biāo)準(zhǔn)所需要的技術(shù),以及盡量減小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技術(shù)以及局部光散射體(LLS)。以上兩類技術(shù)都受到國家安全和反恐管制的約束。

          目前全世界唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭ASML公司,而ASML最大的兩大股東資本國際集團(tuán)(MSCI)和貝萊德集團(tuán)(BlackRock,Inc.)都是美國公司,其用于打造EUV光刻機(jī)的高精技術(shù)也有不少為美國所持有。

          美國商務(wù)部此舉相當(dāng)于直接封鎖了高端芯片的制造技術(shù),針對(duì)的是誰不用多說。從目前來看,中國作為美國芯片產(chǎn)品最大的采購國之一,受出口管制影響是巨大的。

          這是BIS自2018年通過ECRA法令以來實(shí)施的第四套新興技術(shù)管控措施。BIS在此之前曾公布了三份聯(lián)邦文件通知,對(duì)航空航天、生物技術(shù)、化學(xué)、電子、加密、地理空間圖像和海洋領(lǐng)域的31項(xiàng)新興技術(shù)實(shí)施了管制,其中大多數(shù)是在多邊支持下實(shí)施的。其中包括因化學(xué)/生物和反恐理由而受管制的24種化學(xué)武器前體,以及:

          分立微波晶體管(Discrete microwave transistors)

          操作軟件的連續(xù)性(Continuity of operation software)

          Post-quantum密碼學(xué)(Post-quantum cryptography)

          用作水聽器工作的水下傳感器(Underwater transducers designed to operate as hydrophones)

          空中發(fā)射平臺(tái)(Air-launch platforms)

          地理空間圖像軟件(單側(cè))(Geospatial imagery software(unilateral))

          一次性生物培育箱(Single-use biological cultivation chambers)

          總體而言,受新管制影響最大的幾個(gè)行業(yè)是航空航天、生物技術(shù)、化學(xué)、電子、加密、地理空間圖像和海洋行業(yè)。正如BIS所承諾的那樣,新興技術(shù)是加以嚴(yán)格定義的,幾乎都受到多邊管制的約束。

          需要注意的是,根據(jù)ECRA規(guī)定,商務(wù)部工業(yè)安全局已于2020年8月27日起就基礎(chǔ)技術(shù)鑒定征求公眾意見,公眾意見征詢期將持續(xù)到2020年11月9日,也就是說,未來或許還會(huì)有更多新興和關(guān)鍵技術(shù)被列入出口管制清單的可能。

          中方回應(yīng):出口管制清單將適時(shí)發(fā)布!

          不過,在這一公告發(fā)布不就后,我國《出口管制法》在歷經(jīng)三審后在日前通過,新法律自今年12月1日起施行。

          該法規(guī)定,任何國家或者地區(qū)濫用出口管制措施危害中國國家安全和利益的,中國可以根據(jù)實(shí)際情況對(duì)該國家或者地區(qū)對(duì)等采取措施。

          本周四,針對(duì)出口管制清單問題,商務(wù)部新聞發(fā)言人高峰表示,實(shí)施出口管制,是國際上履行防擴(kuò)散等國際義務(wù)通行的做法。自上世紀(jì)九十年代末以來,為履行相關(guān)國際義務(wù),我國先后制定了監(jiān)控化學(xué)品管理?xiàng)l例、核出口管制條例、核兩用品及相關(guān)技術(shù)出口管制條例等6部有關(guān)出口管制的行政法規(guī),形成了覆蓋核、生物、化學(xué)、導(dǎo)彈以及軍品等物項(xiàng)的出口管制法律制度體系。為更好地履行相關(guān)國際義務(wù),適應(yīng)新形勢(shì)下出口管制工作的需要,維護(hù)我國國家安全和利益,自2017年開始,我們就啟動(dòng)了出口管制法的相關(guān)立法工作。在總結(jié)前期經(jīng)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,借鑒國際通行的做法,提升立法層級(jí),制定了《出口管制法》,統(tǒng)領(lǐng)出口管制工作,為相關(guān)工作的開展提供更加有力的法治保障。

          高峰表示:“我們將根據(jù)法律規(guī)定,進(jìn)一步完善并適時(shí)發(fā)布管制清單?!?/p>




          關(guān)鍵詞: 光刻

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