賽默飛Talos F200E 掃描透射電子顯微鏡提供原子級成像和快速EDS分析

科學服務領(lǐng)域的世界領(lǐng)導者賽默飛世爾科技（以下簡稱：賽默飛）宣布推出Talos F200E掃描透射電子顯微鏡（以下簡稱：(S)TEM），這款產(chǎn)品提供原子級分辨率成像和快速的能量色散X射線能譜（以下簡稱：EDS）分析，可提升數(shù)據(jù)可靠性，滿足半導體行業(yè)日益增長的需求。

隨著5G時代的到來，通信技術(shù)的快速發(fā)展將進一步激發(fā)對更高效能的半導體設(shè)備的需求。自動駕駛、人工智能、工業(yè)4.0、智慧城市和物聯(lián)網(wǎng)（IoT）也都在推動半導體制程向著更小、更復雜的方向發(fā)展。半導體行業(yè)的發(fā)展驅(qū)使其研發(fā)實驗室需要更高效的解決方案予以支持，以滿足在原子級分辨率上的大批量、可復現(xiàn)的 (S)TEM結(jié)果的實現(xiàn)。

Talos F200E (S)TEM 可發(fā)揮其自動校準的屬性，控制圖像畸變≤1%，使用戶能夠獲得快速、可靠和可重復的結(jié)果?？膳渲玫腄ual-X比之前的Talos F200X 提供了更強大的EDS探測器，使EDS分析速度提高了1.5倍。Talos F200E 具有成本效益，易用性高，幫助半導體實驗室實現(xiàn)快速的樣品表征，加快可以量產(chǎn)的速度，提高制程良率。

“隨著創(chuàng)新的步伐不斷加快，半導體企業(yè)要求其分析實驗室加快周轉(zhuǎn)時間，并在各種設(shè)備和工藝技術(shù)上提供更可靠和可復現(xiàn)的(S)TEM數(shù)據(jù)，以支持他們的業(yè)務，”賽默飛半導體事業(yè)部副總裁Glyn Davies說道，“Talos F200E通過提供高質(zhì)量的圖像數(shù)據(jù)、快速的化學分析和行業(yè)領(lǐng)先的缺陷表征等特質(zhì)，可以為客戶提供高性價比、易用的解決方案?！?/p>