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          真無需光刻機嗎?石墨烯的突破,將解決“中國芯”的困局?

          作者: 時間:2021-05-27 來源:先瘋觀察 收藏

          半導(dǎo)體行業(yè)是高科技中十分重要的產(chǎn)業(yè),因此各國對芯片的生產(chǎn)十分重視,芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展歷史從最初的微米到納米技術(shù),從90nm的工藝到現(xiàn)在5nm的工藝,每一次進(jìn)步都凝聚了很多人的心血。而生產(chǎn)芯片的主要原材料來自于硅,硅相當(dāng)于一棟房子的地基,沒有硅的存在是無法生產(chǎn)出芯片。畢竟巧婦難為無米之炊,硅是芯片生產(chǎn)過程中最基礎(chǔ)而又最重要的材料,只要有了硅,成熟的技術(shù)和一身的本領(lǐng)才能有發(fā)揮的可能和空間。在我國,與芯片的遭遇一樣,硅材料的大部分專利同樣也被歐美各國所壟斷了,中國再一次被“卡脖子”了。而近日,中國似乎研發(fā)出新技術(shù),有望解決當(dāng)前中芯的困境。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202105/425926.htm


          在硅被壟斷的情況下,中國努力尋找到硅的替代品,通過作為基礎(chǔ)材料,制造成碳基芯片,從而能在原材料上獲得自主權(quán),開墾出了屬于中國自己的草場運用這項新技術(shù)也能獲得碳基芯片,再也不用被擔(dān)心“卡脖子”了,中國已經(jīng)突破了芯片新技術(shù),8英寸晶圓就是新技術(shù)的成果。雖然有了新技術(shù),但還有一個重要的問題仍然沒有被解決,那就是通過新技術(shù)制造碳基芯片是否需要呢?畢竟也是被外國所壟斷的技術(shù)。

          據(jù)了解,是芯片生產(chǎn)的重要生產(chǎn)設(shè)備,通過光刻機才能生產(chǎn)出芯片,尤其是高端的5nm芯片更是離不開光刻機,光刻機被譽為“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,多年荷蘭的阿斯麥在全球范圍內(nèi)占領(lǐng)了75%的市場,并且阿斯麥還是當(dāng)下全球唯一一家能生產(chǎn)最先進(jìn)EUV光刻機的企業(yè)。


          在芯片制造的步驟中,光刻機肩負(fù)了最復(fù)雜和最關(guān)鍵的工藝,此前,中國曾在2018年向ASML購買了一臺光刻機高達(dá)1.2億美元,但由于種種限制這臺被視為芯片行業(yè)救命稻草的光刻機到現(xiàn)在都還沒能到貨。EVU光刻機和低端光刻機都一直受國外把持,能否購買也是他們說了算,因此只有解決光刻機的問題才能推動碳基芯片的生產(chǎn)以及我國半導(dǎo)體行業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展。


          據(jù)了解,碳基芯片與硅芯片在使用同類工藝制造時,碳基芯片的性能是硅芯片的10倍,就算以后使用低端的光刻機生產(chǎn)芯片也能達(dá)到和硅芯片一樣的效果,也就是說此后碳基芯片的生產(chǎn)沒有必要使用高端的光刻機。我國對碳基芯片的研究已經(jīng)位列世界前沿水平了,而硅基芯片卻遇上了摩爾定律極限的困境,而碳基芯片能夠替代硅基芯片,所以碳基芯片很有可能用來解決當(dāng)前的芯片瓶頸,經(jīng)過分析和研究,業(yè)內(nèi)也一致認(rèn)為摩爾定律已經(jīng)接近極限,而芯片工藝也無法突破當(dāng)下的發(fā)展。

          從碳基芯片出發(fā),中國就能完全繞開歐美各國建立屬于自己的芯片產(chǎn)業(yè)鏈,完全有可能解決中芯國際當(dāng)下被“卡脖子”的困境,擺脫對國外技術(shù)的依賴和設(shè)備的供給,中芯國際才能打造國產(chǎn)化替代產(chǎn)業(yè)鏈。


          此前,在特朗普離開白宮之后,對中國光刻機封鎖的荷蘭也終于肯對中售賣了,雖然這將解決中國當(dāng)下的困境,但技術(shù)始終是別人的這樣做只是治標(biāo)不治本,中國只有研制出光刻機才能避免再次陷入被封鎖的局面。荷蘭肯賣光刻機并不是想通了,而是中國自己能制造光刻機了,這個套路聽起來很耳熟對吧,此前也發(fā)生過類似的事件,就是中國研制出熊貓EDA的時候,美國三巨頭公司低價傾銷他們生產(chǎn)的EDA,荷蘭此舉就是照貓畫虎的行為。

          上海微電子就是能制造光刻機的廠商,雖然其制造的工藝較為落后,已經(jīng)落后荷蘭的ASML兩代工藝,但不積跬步無以至千里,不積小流無以成江海,中國從來都是這樣,實現(xiàn)從無到有,從努力追趕到創(chuàng)新自主,我國此次研制的光刻機也能滿足當(dāng)下的市場需求。綜合多方媒體報道,上海微電子設(shè)備公司(SMEE)采用國產(chǎn)以及日本零部件研發(fā)的28nm第二代深紫外(DUV)光刻機有望在2021年4季度實現(xiàn)交付,國產(chǎn)光刻機實現(xiàn)了技術(shù)完全自主,繞過了美國技術(shù)支持,若是國產(chǎn)光刻機能夠后來居上,相信荷蘭的光刻機的市場份額將會被搶占。

          硅的替代原料有了,如今對芯片生產(chǎn)至關(guān)重要的光刻機中國也有能力自主生產(chǎn)了,那么中國的芯片行業(yè)就有了欣欣向榮的未來,一些科研人員也在夜以繼日的深入研究和學(xué)習(xí)新技術(shù),爭取早日追趕上其他國家的進(jìn)度,為實現(xiàn)中國半導(dǎo)體行業(yè)自主而努力。有了各方的努力,中芯國際突破困境將不再是畫中夢了。




          關(guān)鍵詞: 光刻機 石墨烯

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