生產(chǎn)力提升15% ASML交付首臺極紫外光刻機(jī)
芯研所消息,ASML第一臺全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機(jī)系統(tǒng)已經(jīng)交付給客戶,和前代產(chǎn)品相比生產(chǎn)力提高了約15-20%,套刻精度提高了約30%。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202107/427109.htm據(jù)了解,本次交付的TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機(jī)的EUV光源波長13.5nm左右,物鏡NA數(shù)值孔徑0.33,第二代EUV光刻機(jī)將會(huì)是NXE:5000系列,物鏡NA提升到0.55,進(jìn)一步提高光刻精度。
ASML表示,正努力增加EUV光刻機(jī)在存儲行業(yè)的量產(chǎn)應(yīng)用,計(jì)劃協(xié)助三個(gè)DRAM內(nèi)存芯片客戶在未來的工藝節(jié)點(diǎn)中導(dǎo)入EUV。
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