功耗降低30%：臺(tái)積電3nm工藝已量產(chǎn)

芯研所7月22日消息，作為臺(tái)積電的第一大客戶，蘋(píng)果最近幾年的iPhone新品都能首發(fā)臺(tái)積電新一代工藝，不過(guò)今年的iPhone 14是趕不上臺(tái)積電3nm工藝了。

iPhone 14系列無(wú)緣3nm主要是臺(tái)積電的3nm工藝今年進(jìn)度有些晚，上半年沒(méi)能量產(chǎn)，拖到下半年，跟不上蘋(píng)果的量產(chǎn)進(jìn)度，不過(guò)最新消息稱3nm工藝已經(jīng)開(kāi)始投片量產(chǎn)，而且在新竹、南科兩個(gè)園區(qū)的工廠同時(shí)量產(chǎn)最先進(jìn)的工藝。不過(guò)臺(tái)積電官方?jīng)]有確認(rèn)這一消息，臺(tái)積電表示不評(píng)價(jià)市場(chǎng)傳聞。

根據(jù)臺(tái)積電之前的消息，3nm節(jié)點(diǎn)上至少有5代衍生版工藝，分別是N3、N3P、N3S、N3X及N3E，其中N3工藝是最早量產(chǎn)的。對(duì)比N5工藝，N3功耗可降低約25-30％，性能可提升10-15％，晶體管密度提升約70％。