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          三星首次采用韓國本土EUV光刻膠 打破日企壟斷

          作者:陳玲麗編譯 時間:2022-12-06 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          據(jù)報道,首次引入本土公司東進世美肯(Dongjin Semichem)研發(fā)的 PR)進入其量產(chǎn)線,這也是進行本土量產(chǎn)的首次嘗試。在2019年經(jīng)歷與日本的等關(guān)鍵原料的供應風波之后,就在嘗試將關(guān)鍵原料的供應本土化,經(jīng)過三年的努力,實現(xiàn)了光刻膠本地化生產(chǎn)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202212/441295.htm

          截屏2022-12-06 11.49.58.png

          在日本限制出口、三星嘗試重構(gòu)光刻膠的供應鏈之后,東進世美肯就已開始研發(fā)EUV光刻膠,并在去年通過了三星的可靠性測試,隨后不到一年就被應用于三星的大規(guī)模生產(chǎn)線。不過,EUV光刻膠可用于3-50道程序,目前也還不確定是用于哪一工藝程序。

          同三星電子整體的生產(chǎn)線相比,東進世美肯的EUV光刻膠用于一條工藝線還只是很小的一部分,但對于一種此前100%全部依賴進口的原材料,能用于一條工藝線也有特殊的意義。

          由于需要考慮與海外供應商之間的關(guān)系等多重因素,目前還不清楚三星是否會將本土EUV光刻膠用于更多的工藝線,預計根據(jù)其表現(xiàn)將決定未來的供應是否增加。

          光刻膠是指經(jīng)過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射后,溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關(guān)鍵材料,主要應用于積體電路和分立器件的細微圖形加工:當用半導體曝光設(shè)備照射光時,會發(fā)生化學反應并改變物理性質(zhì),通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路,只留下必要的部分。

          由于東進世美肯成為第一家將光刻膠本地化并達到大規(guī)模生產(chǎn)水平的公司,永昌化學和SK材料性能也在開發(fā)光刻膠,但它們還沒有達到可靠性驗證的水平。

          從整體業(yè)態(tài)來看,全球光刻膠市場高度集中,日美把控著絕大部分市場份額。日本的JSR、東京應化、信越化學及富士膠片四家企業(yè)占據(jù)了全球 70%以上的市場份額,壟斷地位穩(wěn)固。



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