光刻膠 文章 進入光刻膠技術社區(qū)
復旦大學研發(fā)半導體性光刻膠，實現(xiàn)特大規(guī)模集成度有機芯片制造
- 復旦大學報道功能性半導體光刻膠。
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芯源微廣州子公司光刻膠泵及高純供液系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)化項目開工
- 4月25日，沈陽芯源微電子設備股份有限公司（以下簡稱“芯源微”）廣州子公司——廣州芯知科技有限公司半導體設備光刻膠泵及高純供液系統(tǒng)研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目開工儀式在廣州舉行。據(jù)官網(wǎng)介紹，芯源微成立于2002年，是由中科院沈陽自動化研究所發(fā)起創(chuàng)建的國家高新技術企業(yè)，專業(yè)從事半導體生產(chǎn)設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務，致力于提供半導體裝備與工藝整體解決方案。芯源微所開發(fā)的涂膠機、顯影機、噴膠機、去膠機、濕法刻蝕機、單片清洗機等產(chǎn)品，已形成完整的技術體系和豐富的產(chǎn)品系列，產(chǎn)品適應不同工藝等級的客戶要求，廣泛應用于半導體生產(chǎn)
- 關鍵字： 光刻膠 芯源微
國產(chǎn)光刻膠新突破！
- 近日，華中科技大學與湖北九峰山實驗室的研究團隊在光刻膠技術領域取得重大進展，成功突破“雙非離子型光酸協(xié)同增強響應的化學放大光刻膠”技術。在半導體制造環(huán)節(jié)，光刻膠是不可或缺的材料，其質量和性能是影響集成電路電性、成品率及可靠性的關鍵因素。但光刻膠技術門檻高，市場上制程穩(wěn)定性高、工藝寬容度大、普適性強的光刻膠產(chǎn)品屈指可數(shù)。當半導體制造節(jié)點進入到100nm甚至是10nm以下，如何產(chǎn)生分辨率高且截面形貌優(yōu)良、線邊緣粗糙度低的光刻圖形，成為光刻制造的共性難題。為此，華中科技大學與九峰山實驗室聯(lián)合研究團隊通過巧妙的化
- 關鍵字： 國產(chǎn) 光刻膠
我國科研團隊完成新型光刻膠技術初步驗證：為EUV光刻膠開發(fā)做技術儲備
- 4月2日消息，據(jù)湖北九峰山實驗室官微消息，九峰山實驗室、華中科技大學組成聯(lián)合研究團隊，支持華中科技大學團隊突破“雙非離子型光酸協(xié)同增強響應的化學放大光刻膠”技術。據(jù)介紹，該研究通過巧妙的化學結構設計，以兩種光敏單元構建“雙非離子型光酸協(xié)同增強響應的化學放大光刻膠”，最終得到光刻圖像形貌與線邊緣粗糙度優(yōu)良、space圖案寬度值正態(tài)分布標準差（SD）極小（約為0.05）、性能優(yōu)于大多數(shù)商用光刻膠。且光刻顯影各步驟所需時間完全符合半導體量產(chǎn)制造中對吞吐量和生產(chǎn)效率的需求。作為半導體制造不可或缺的材料，光刻膠質量
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這家企業(yè)欲收購光刻膠龍頭關鍵股份
- 日本芯片材料廠商Resonac的首席執(zhí)行官Hidehito Takahashi正在為日本分散的芯片材料行業(yè)的另一輪整合做準備，并表示公司可能會出手收購JSR的關鍵股份。source：ResonacHidehito Takahashi表示，JIC（日本投資公司）斥60億美元收購全球最大光刻膠制造商JSR，這將促進日本供應鏈急需的變革。他說，Resonac是由Showa Denko （昭和電工）和Hitachi Chemical （日立化成）合并而成的化學品集團，正在考慮如何在JSR的未來中發(fā)揮積極作
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三星首次采用韓國本土EUV光刻膠 打破日企壟斷
- 據(jù)報道，三星首次引入韓國本土公司東進世美肯（Dongjin Semichem）研發(fā)的EUV光刻膠（EUV PR）進入其量產(chǎn)線，這也是三星進行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。在2019年經(jīng)歷與日本的光刻膠等關鍵原料的供應風波之后，三星就在嘗試將關鍵原料的供應本土化，經(jīng)過三年的努力，韓國實現(xiàn)了光刻膠本地化生產(chǎn)。在日本限制出口、三星嘗試重構EUV光刻膠的供應鏈之后，東進世美肯就已開始研發(fā)EUV光刻膠，并在去年通過了三星的可靠性測試，隨后不到一年就被應用于三星的大規(guī)模生產(chǎn)線。不過，EUV光刻膠可用于3-50道程序，目前
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三星首次引進本土生產(chǎn)光刻膠，日本稱霸該市場
- 12 月 4 日消息，據(jù) ETNews 消息，三星電子首次引入東進世美肯半導體的光刻膠進入其量產(chǎn)線，這也是三星進行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。不過考慮到三星與海外光刻膠供應商的關系，目前具體產(chǎn)量尚不清楚，且三星是否會額外引進其他品種的光刻膠也并沒有得到回應。報道稱，三星電子已將韓國公司開發(fā)的用于高科技工藝的極紫外光刻膠（PR）引入其大規(guī)模生產(chǎn)線。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韓國出口包括含氟聚酰亞胺、光刻膠以及高純度氟化氫在內(nèi)的三項重要半導體及 OLED 面板原材料，經(jīng)過三年的努力，韓國實現(xiàn)了光刻
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中國半導體行業(yè)10大光刻膠企業(yè)
- 什么是光刻膠？為什么它在半導體領域如此之重要？光刻膠又叫光致抗蝕劑，制造一塊芯片往往要對硅片進行數(shù)十次光刻，除了用到光刻機，還要添加光刻膠作為抗腐蝕涂層。這是一種高頻剛需的材料，光刻膠生產(chǎn)技術較為復雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。說到材料就進入了今天的主題，我們不得不接受一個殘酷的現(xiàn)實，中國大陸不僅造不出光刻機、光刻膠領域也被卡脖子了。今年五月份，日本對中國光刻膠提出了斷供，直接導致國內(nèi)多家晶圓廠將會面臨大缺貨的處境，按照工藝的先進程度，光刻膠依次分為G線、I線、
- 關鍵字： 光刻膠
比芯片更讓人擔憂：光刻膠自給率不足5%，50nm工藝以下全靠進口
- 最近，關于日本光刻膠或斷供部分國內(nèi)芯片企業(yè)的消息，不時地傳出。原因在于日本的光刻膠產(chǎn)能沒有提升，且全球第五大光刻膠生產(chǎn)企業(yè)信越化學（日本企業(yè)）KrF光刻膠福島工廠關閉，產(chǎn)能受限，但全球芯片的產(chǎn)能在不斷的提升，于是光刻膠也開始供不應求了?！ ∠鄳?，這些光刻膠廠商肯定優(yōu)先供應大客戶，中國的這些小客戶自然優(yōu)先級排在后面，所以也就有可能面臨斷供的風險?！ 『芏嗳吮硎荆瑪喙┠軌虮浦覀兊墓饪棠z前進，話是這樣沒錯，但說實話，目前國內(nèi)光刻膠技術與日本或者說國際領先水平差太遠，一旦斷供，國產(chǎn)頂不上，影響還是很大的。
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中國芯片產(chǎn)業(yè)再破“卡脖子”，華為迎來新希望
- 2019年5月份時，美國將華為列入到所謂的實體名單，之后在2020年，又對華為進行了兩次無理的打壓，使得華為在芯片方面難以得到供應，甚至連芯片代工也無法實現(xiàn)。正是因此，華為在2020年11月份，將榮耀整體出售，而華為的手機業(yè)務也受到很大的影響，因為芯片供應短缺，使得華為的手機市場份額，已經(jīng)不再世界前五。不過我們看到，華為已經(jīng)找到了新的賽道，那就是智能電動汽車領域，華為給自己的定位，是成為該領域的增量部件提供商，這與手機業(yè)務的市場策略很不一樣。在智能手機上，華為的角色是一家整機廠商，其定位是產(chǎn)業(yè)鏈的下游；而
- 關鍵字： 光刻機 光刻膠 南大光電
光刻膠：芯片產(chǎn)業(yè)鏈形成的關鍵原料
- 光刻膠是利用光化學反應經(jīng)光刻工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移媒介。作用原理是利用紫外光、準分子激光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射,使其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。光刻膠主要用于集成電路和半導體分立器件的微細加工，同時在平板顯示、LED、倒扣封裝、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有著廣泛的應用。光刻膠又稱光致抗蝕劑，由主要成分和溶劑構成，當前光刻膠主要使用的溶劑為丙二醇甲醚醋酸酯（PMA），占光刻膠含量約為80%-90%。主要成分包括樹脂、單體、光引發(fā)劑及添
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光刻膠和掩膜版，純國產(chǎn)芯片生產(chǎn)需要克服的兩個重要障礙
- 無法制造純國產(chǎn)的高端芯片，是國人心中隱隱的痛！目前來說，阻礙國產(chǎn)高端芯片的最大瓶頸就是極紫外光刻機。但是，即使有了極紫外光刻機，也需要光刻膠和掩膜版來進行配套才行。一、光刻機不是直接刻蝕芯片正如上一個關于光刻機的視頻所說，芯片生產(chǎn)用的光刻機，只是起到曝光的作用，并不進行刻蝕。要想用光刻機進行直接刻蝕，必然面臨以下幾個難題。首先，要把激光功率做到足夠大，需要把硅或一些金屬氧化物直接氣化剝離。目前來說，波長越短的激光光源制造越困難，實現(xiàn)大功率越難，現(xiàn)有的紫外、極紫外光源難以產(chǎn)生足夠強的激光。尤其是極紫外光源，
- 關鍵字： 光刻膠 掩膜版
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