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          IGBT模塊中不同金屬化方法覆銅氮化鋁陶瓷基板的可靠性研究

          作者:侯美珍(珠?;浛凭┤A科技有限公司,廣東珠海 519000) 時間:2022-12-26 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏
          編者按:針對氮化鋁陶瓷基板的IGBT應用展開分析,著重對不同金屬化方法制備的覆銅AlN基板進行可靠性進行研究。通過對比厚膜法、薄膜法、直接覆銅法和活性金屬釬焊法金屬化AlN基板的剝離強度、熱循環(huán)、功率循環(huán),分析結(jié)果可知,活性金屬釬焊法制備的AlN覆銅基板優(yōu)于其他工藝基板,剝離強度25 MPa,(-40 ~150)℃熱循環(huán)達到1 500次,能耐1 200 A/3.3 kV功率循環(huán)測試7萬次,滿足IGBT模塊對陶瓷基板可靠性需求。


          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202212/442089.htm

          0   引言

          在電力電子的應用中,大功率電力電子器件是實現(xiàn)能源控制與轉(zhuǎn)換的核心,廣泛應用于高速鐵路、智能電網(wǎng)、電動汽車與新能源裝備等領域[1-2]。隨著能量密度提高,功率器件對陶瓷覆銅基板的散熱能力和可靠性的要求越來越高。目前的陶瓷基板材料主要有:Al2O3、ALN、Si3N4、BeO、SiC 等[3-4]。其中Al2O3 陶瓷開發(fā)最早,技術最為成熟,成本最低,應用最廣泛,但Al2O3陶瓷的熱導率僅為17 ~ 25 W/(m·K),且與Si 及GaAs 等半導體材料的熱膨脹系數(shù)匹配性較差,限制了其在高頻、大功率、高集成電路中的使用。SiC 陶瓷基板的熱導率高,熱膨脹系數(shù)與Si 最為相近,但其介電性能(εr = 42)較差,燒結(jié)損耗大、難以致密,成本高,限制了其大批量應用。Si3N4 雖然強度、韌性高、可靠性高,以其等優(yōu)異的綜合熱力學性能成為較有前途的大功率候選材料之一,但多晶Si3N4 陶瓷在室溫下的熱導率均較低,且關鍵技術都掌握在日本,限制了在國內(nèi)Si3N4基板在 組件中的應用。BeO的熱導率雖與AlN相當,但熱膨脹系數(shù)過高,且BeO 粉體有毒性,吸入人體后會導致慢性鈹肺病,世界上大多數(shù)國家早已停止使用BeO。相比而言,AlN 陶瓷基板具有高的導熱性(理論值319 W/(m·K)) 與Si 等半導體材料較匹配的熱導率、寬的操作溫度(工作溫度范圍和耐高溫方面)和優(yōu)良的絕緣性能,在大功率電力半導體模塊、智能功率組件、汽車電子、高密度封裝載板和發(fā)光二極管(LED)等方面有很好的發(fā)展前景,是先進集成電路陶瓷基板最重要的材料之一。

          AlN基板技術主要有厚膜法(TFC)、薄膜法(DPC)、直接覆銅法(DBC)及活性金屬釬焊法(AMB)等方法。本文著重開展以上4 種方法制備覆銅AlN 基板的可靠性研究,為相應功率器件在我國高速鐵路、智能電網(wǎng)、電動汽車等領域的廣泛應用積累基礎實驗數(shù)據(jù)。

          1   試驗方法

          使用厚度1 mm 的AlN 陶瓷基板( 福建華清電子材料科技有限公司), 無氧高導電銅箔(OFHC,0.05 mm,中國國藥化學試劑有限公司),五水硫酸銅(CuSO4·5H2O,中國國藥化學試劑有限公司),鹽酸(HCl,中國國藥化學試劑有限公司),硫酸(H2SO4,中國國藥化學試劑有限公司),Cu-P 陽極板(P 含量0.05%,深圳市斗光電子科技公司),AgCuTi 活性金屬焊膏(Ti含量4.5%,長沙天九金屬材料有限公司),燒結(jié)Cu漿(惠州市騰輝科技有限公司)。將AlN 陶瓷和銅箔切割為尺寸10 mm×10 mm 的正方形塊狀,并使用1 000 目砂紙打磨表面,然后在蒸餾水浴中超聲清洗20 min 備用。

          DPC :采用磁控濺射先在AlN 陶瓷表面制備厚約1 μm 的Ti 打底層,再制備一層厚約3 μm 的Cu種子層。最后將該陶瓷基板置于電鍍液(CuSO4·5HO 200 g/L,H2SO4 50 g/L,Cl- 60 μg/L)中電鍍,使Cu 層增厚至約50 μm,完成金屬化。

          TFC 金屬化:將銅漿料通過絲網(wǎng)印刷涂布在上,膜厚50 μm,850 ℃ 真空燒結(jié),得到TFC覆銅AlN 基板。

          DBC 金屬化:將AlN 基板與Cu 箔對齊裝配后施加一定壓力,控制爐內(nèi)氧分壓,加熱至1 065 ℃,使得Cu箔表面的氧化物薄層與AlN 基板表面氧化產(chǎn)生的Al2O3反應生成CuAlO2 化合物,并產(chǎn)生冶金結(jié)合。

          AMB 金屬化: 在AlN 表面涂布一層AgCuTi 焊膏,并覆上Cu 箔,之后將樣件置于真空環(huán)境中加熱至890 ℃ 并保溫一段時間,即可得到覆銅AlN 基板。

          2   分析測試

          使用島津拉力機分別測試四種金屬化方法制備的覆銅AlN 陶瓷基板的剝離強度,使用冷熱沖擊試驗箱測試覆銅基板可靠性,最后對基板進行功率循環(huán)測試和熱阻測試。

          3   結(jié)果與討論

          3.1 不同金屬化方法制備AlN覆銅基板的剝離強度

          AlN 陶瓷金屬化銅層與基板的結(jié)合力大小決定了其在實際應用過程中的可靠與否,是陶瓷金屬化基板的核心性能指標。本文借鑒《微電子技術用貴金屬漿料測試方法 附著力測定》[9]中的方法,通過剝離強度測試金屬化層的附著力。圖1 是DPC 金屬化基板、TFC 金屬化基板、DBC 金屬化基板和AMB 金屬化基板Cu 層的剝離強度。

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          圖1 不同金屬化方法制備覆銅陶瓷基板的剝離強度

          從圖1 可知,AMB 金屬化陶瓷基板陶瓷與金屬化層結(jié)合力最好,剝離強度為25 Mpa,接下來是DBC和TFC 金屬化陶瓷基板,剝離強度分別為21 Mpa 和15 Mpa,最差的是DPC 金屬化基板,剝離強度僅為13 Mpa。

          對于AMB 基板,由于中間有1 層活性釬料,其中的Ti 元素對附著力起到關鍵因素,Ti 元素與AlN 基板反應生成TiN,可以提升金屬層的附著力。對于DBC基板,在覆銅過程中Cu 箔與微量氧氣生成Cu2O,而Cu2O 可以與金屬Cu 形成共晶組織。AlN 基板在覆Cu 箔之前通常需要對其進行預氧化處理,形成幾個μm 厚度的Al2O3 層,Cu2O 與Al2O3 可以在高溫下生成CuAlO2 化合物,因此AlN 基板與覆Cu 層具有很好的界面結(jié)合[5]。TFC 基板的附著力主要由漿料內(nèi)部的玻璃成分決定,高溫燒結(jié)過程中玻璃軟化并與陶瓷基板潤濕產(chǎn)生結(jié)合,此外軟化的玻璃還可以錨接銅粉燒結(jié)形成的金屬化層,從而使金屬化層與陶瓷基板牢固結(jié)合。對于DPC 陶瓷基板,電鍍Cu 層與AlN 基板之間僅有一層Ti薄膜層,該薄膜與陶瓷基板僅有物理結(jié)合,因此金屬層結(jié)合力最低。

          3.2 4種AlN基板可靠性測試(冷熱沖擊)

          對4 種AlN 覆銅基板循環(huán)進行冷熱沖擊熱循環(huán)實驗,條件為在-55 ℃ ~ 150 ℃,每個溫度保溫30 min,5 s 內(nèi)完成到155 ℃ 溫度轉(zhuǎn)換,循環(huán)次數(shù)為100、500、1 000、1 500 cycles。

          表1 不同金屬化方法制備覆銅陶瓷基板的沖擊實驗結(jié)果

          制備工藝
          -55 ℃~150 ℃冷熱沖擊循環(huán)次數(shù)
          DPC
          200
          TFC
          500
          DBC
          1 000
          AMB
          1 500

          從表1 可知,AMB 法制備的AlN 覆銅板耐熱沖擊次數(shù)明顯高于其他制備工藝。AlN 覆銅板耐熱沖擊主要的失效模式為金屬層剝離和AlN 陶瓷基板開裂。

          對于DPC 基板,在200 次冷熱循環(huán)后,金屬層與AlN 完全剝離,剝離強度為0。AlN 厚膜覆銅板,在500 次冷熱循環(huán)后,金屬層有局部剝離,剝離強度降為20%。DBC 基板在1 000 次冷熱循環(huán)后,剝離強度降低了20%,但去除金屬層,通過超聲波掃描顯微鏡探測,與銅結(jié)合邊緣處AlN 基板有微裂紋,這是由于金屬Cu和AlN 的熱膨脹系數(shù)差別大,兩者在高溫急速降溫過程中,材料內(nèi)部存在大量的熱應力,而導致開裂。AMB基板在1 500 次冷熱循環(huán)后,金屬層剝離力無下降現(xiàn)象,陶瓷表面無微裂紋。由于金屬層與AlN 陶瓷之間有剛度較低的活性釬料過渡層,可以避免大量的熱應力形成而造成的AlN 陶瓷基板微裂紋產(chǎn)生[6]。

          表2 AlN與Cu熱膨脹系數(shù)對比

          材質(zhì)
          α/K-1 @ 20 ℃
          AlN
          4.7×10-6
          Cu
          18.6×10-6

          3.3 4種AlN基板功率循環(huán)耐測試

          為了更好地評估AlN覆銅板耐久性和壽命,將4 種AlN覆銅板以常規(guī)工藝封裝成 模塊,用硅膠進行密封保護,恒定功率為1 200 A/3.3 kV、0~85 000 次循環(huán)測試,驗證4 種AlN 覆銅板IGBT 模塊的功率循環(huán)可靠性。器件的起始溫度T0 設置為45 ℃,Tc 為循環(huán)后的溫度,相對熱阻Rr 由下式計算[7]

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          圖2 功率循環(huán)試驗曲線

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          圖3 不同金屬化方法制備覆銅陶瓷基板IGBT模塊功率循環(huán)后的熱阻

          從圖3 可知,AMB 陶瓷基板IGBT 模塊在7 萬次功率循環(huán)后,模塊溫度為50 ℃,相對熱阻<15%,滿足電力電子器件特別是高壓、大電流IGBT 模塊可靠性要求(相對熱阻<15%)。DBC 陶瓷基板IGBT 模塊在4 萬次循環(huán)前,相對熱阻保持在15% 以內(nèi),超過4 萬次,模塊溫度逐漸增高,相對熱阻(> 15%)超出了可靠性要求。DPC 陶瓷基板在1 萬次相對熱阻為22%,器件受到破壞,在3 萬次循環(huán)后器件完全失效。TFC 陶瓷基板在2 萬次循環(huán)后相對熱阻為33%,器件受到破壞,4.5 萬次循環(huán)后器件完全失效。

          4   結(jié)束語

          本文對比了4 種AlN 基板的剝離強度、熱循環(huán)可靠性、模塊功率循環(huán)可靠性。從對比可知,AlN-AMB 覆銅板可靠性最好,剝離強度25 MPa,-40~150 ℃ 熱循環(huán)達到1 500 次,能耐1200 A/3.3 kV 功率循環(huán)測試,滿足高壓、大電流、高頻IGBT 模塊封裝對覆銅板的可靠性要求。采用氮化鋁基板進行功率負載的制備可有效提高器件的耐功率能力。

          參考文獻:

          [1] 齊維靖.大功率LED氮化鋁陶瓷散熱基板的制備[D].南昌:南昌大學,2012.

          [2] 嚴光能,鄧先友,林金堵.高導熱氮化鋁基板在航空工業(yè)的應用研究[J].印制電路信息,2017(11):43-47.

          [3] 陳科成.功率電子器件封裝用氮化鋁陶瓷基板覆銅的研究[D].杭州:中國計量大學,2019.

          [4] 溫暉.大功率IGBT模塊系統(tǒng)級封裝設計與實現(xiàn)[D].成都:電子科技大學, 2021.

          [5] 張振文,崔嵩,詹俊,許海仙.大功率IGBT模塊用氮化鋁DBC基板技術研究[J].真空電子技術,2017(5):33-38.

          [6] 錢建波,黃世東.IGBT用氮化鋁覆銅襯板可靠性研究[J].大功率變流技術,2017(5):55-69.

          [7] 張薷方. 基于有限元法的IGBT模塊封裝散熱性能及熱應力的仿真研究[D].重慶:重慶大學,2015.

          [8] GB/T 17473.4—2008微電子技術用貴金屬漿料測試方法附著力測定[S].

          (本文來源于《電子產(chǎn)品世界》雜志2022年12月期)



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