ASML堵了EUV光刻機(jī)的路,但國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)有3大新方向
眾所周知,當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī),甚至可以說(shuō)很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi),全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機(jī),不會(huì)有第二家。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202302/443707.htm原因在于ASML把EUV光刻機(jī)的路堵住了,這條路別人是走不通的。
ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈,形成了捆綁關(guān)系,像蔡司等與ASML形成了利益共同體,EUV光刻機(jī)中,蔡司等廠商至關(guān)重要,掌握核心科技,缺少這些供應(yīng)鏈,其它廠商不可能制造出EUV光刻機(jī)。
所以,目前眾多的其它光刻機(jī)企業(yè),并不打算走EUV光刻機(jī)這條路,在另尋它路。
同樣的,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)基本上也走不通EUV這條路,只能另尋他路,而從現(xiàn)在的情況來(lái)看,目前主流上有三條路,這三條路都能實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)的效果。
第一條路是電子束光刻——用電子束在硅片上進(jìn)行雕刻。
這條路的優(yōu)點(diǎn)是精細(xì),分辨率高,比EUV光刻機(jī)還要高,美國(guó)公司Zyvex Labs生產(chǎn)出了這樣的光刻機(jī),實(shí)現(xiàn)0.768nm芯片的光刻,但缺點(diǎn)是產(chǎn)能低,效率低,無(wú)法大規(guī)模量產(chǎn)芯片,只能實(shí)驗(yàn)室用,但也不失為一條新的路。
第二條路是納米壓印,也稱NIL技術(shù)。原理是電路圖設(shè)計(jì)出來(lái)后,刻在納米板上,再像印書一樣壓印在硅片上。
這種的優(yōu)點(diǎn)非常多,比如功率遠(yuǎn)比EUV光刻機(jī)低,一臺(tái)EUV光刻機(jī)一年要用1000萬(wàn)度電,但這種NIL技術(shù)能耗減少90%,且制造成本比EUV光刻機(jī)低40%。
缺點(diǎn)是目前精度不夠,遠(yuǎn)遠(yuǎn)達(dá)不到7nm、5nm的級(jí)別,大約還處于28-40nm及以上,但未來(lái)精度提高后,替代EUV完全可行。
還有一種是自組裝(DSA)光刻,這種技術(shù)比較神奇,就是用一些化學(xué)材料,直接在硅晶圓上,操縱這些材料,把芯片的電路圖刻畫出來(lái),比如不要的部分用材料腐蝕掉……
但這種技術(shù),目前還遠(yuǎn)遠(yuǎn)看不到量產(chǎn)的希望,這種神奇的化學(xué)材料不好找,但美國(guó)、歐洲等實(shí)驗(yàn)室據(jù)說(shuō)有了進(jìn)展,不過(guò)短時(shí)間內(nèi)肯定沒(méi)戲,只能在科幻劇中看到。
很明顯,目前看起來(lái)最可靠的,還是NIL納米壓印技術(shù),完全有替代EUV光刻機(jī)的可能性,目前國(guó)內(nèi)也在研究這個(gè)技術(shù)。
不過(guò)研究最好的還是日本的佳能,佳能在NIL技術(shù)上專利全球最多,且已經(jīng)有了量產(chǎn)機(jī)器,目前在改進(jìn)精度,希望國(guó)產(chǎn)加油,也能夠趕緊推出NIL光刻機(jī)出來(lái),那樣我們的芯片就不怕被卡脖子了。
評(píng)論