ASML遭臺(tái)積電大規(guī)??硢?,強(qiáng)調(diào)7nm高端DUV光刻機(jī)仍可出口中國(guó)
據(jù)臺(tái)系設(shè)備廠商透露ASML近期由于客戶(hù)大砍資本支出、縮減訂單,最重要的是大客戶(hù)臺(tái)積電也大砍逾4成EUV設(shè)備訂單及延后拉貨時(shí)間,2024全年業(yè)績(jī)將明顯承壓。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202304/445794.htm根據(jù)ASML的財(cái)報(bào)顯示,今年一季度的凈銷(xiāo)售額為67.46億歐元,較去年同期的35.34億歐元大幅增加,接近翻番,較上一季度的64.3億歐元也有增加;凈利潤(rùn)為19.56億歐元,較去年同期的6.95億歐元大幅增加,較上一季度的18.17億歐元也有增加。
雖然凈銷(xiāo)售及利潤(rùn)同比環(huán)比均有增加,但ASML在財(cái)報(bào)中也披露了不利的消息,其一季度的凈訂單只有37.52億歐元,遠(yuǎn)不及去年同期的69.77億歐元,也明顯低于上一季度的63.16億歐元。
受此消息影響,ASML將會(huì)積極保證中國(guó)市場(chǎng)的訂單,預(yù)計(jì)2023年在中國(guó)的銷(xiāo)售額將保持在22億歐元左右(約合人民幣超162億元),其正在加快拓展在中國(guó)的業(yè)務(wù)和銷(xiāo)售。
在這之前,ASML強(qiáng)調(diào)新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng),而只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。
截至目前企業(yè)尚未收到有關(guān)“最先進(jìn)”的確切定義的信息,公司將其解讀為在資本市場(chǎng)日會(huì)議上定義的“關(guān)鍵的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)”,即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。
所謂浸沒(méi)式光刻機(jī),屬于193nm(光源)光刻機(jī)(分為干式和浸沒(méi)式),可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造,但是目前也有被業(yè)界廣泛應(yīng)用在45nm及以下的成熟制程當(dāng)中。
ASML公司官網(wǎng)信息顯示,該公司主流的DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款設(shè)備:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i,其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產(chǎn)品。
ASML官網(wǎng)上關(guān)于這一臺(tái)TWINSCAN NXT:1980Di的介紹,其中在分辨率方面,寫(xiě)到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右),而這是指一次曝光的分辨率,事實(shí)上光刻機(jī)是可以進(jìn)行多次曝光的。
理論上NXT:1980Di依然可以達(dá)到7nm,只是步驟更為復(fù)雜、成本更高、良率可能也會(huì)有損失 —— 晶圓廠用這一臺(tái)光刻機(jī),大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片,很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝,因?yàn)榱悸实?、成本高,沒(méi)什么競(jìng)爭(zhēng)力。
評(píng)論