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          ASML官網顯示:支持7nm高端DUV光刻機仍可出口

          作者:時間:2023-07-03來源:快科技收藏

          荷蘭政府宣布了限制某些先進半導體設備出口的新規定,這些規定將于9月1日生效。具體而言,荷蘭政府將要求先進設備的公司在出口之前須獲得許可證。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202307/448207.htm

          在其官網發表聲明稱,該公司未來出口其先進的浸潤式系統(即TWINSCAN NXT:2000i及后續浸潤式系統)時,將需要向荷蘭政府申請出口許可證。而

          強調,該公司的EUV系統的銷售此前已經受到限制。

          官網提供的信息,該公司目前在售的主流浸沒式機產品共有三款,分別是:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

          阿斯麥3月曾表示,預計2000i和2050i這兩款產品會受到荷蘭政府的出口限制。再對比阿斯麥今天的回應來看,TWINSCAN NXT:1980Di這款浸潤式機并不在限制范圍內。

          ASML官網上關于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹,其中在分辨率方面,寫到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右),而這是指一次曝光的分辨率,事實上光刻機是可以進行多次曝光的。

          理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm,只是步驟更為復雜,成本更高,良率可能也會有損失,晶圓廠用這一臺光刻機,大多是生產14nm及以上工藝的芯片,很少去生產14nm以下的工藝,因為良率低,成本高,沒什么競爭力。

          留有生機!ASML官網顯示:支持7nm高端DUV光刻機仍可出口

          留有生機!ASML官網顯示:支持7nm高端DUV光刻機仍可出口



          關鍵詞: ASML 芯片制造 DUV 光刻

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