非光刻方案,佳能開始銷售 5nm 芯片生產設備
IT之家 10 月 14 日消息,佳能(Canon)公司近日發(fā)布新聞稿,開始銷售芯片生產設備 FPA-1200NZ2C,表示采用不同于復雜光刻技術的方案,可以制造 5 nm 芯片。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202310/451572.htm佳能表示這套生產設備的工作原理和行業(yè)領導者 ASML 不同,并非光刻,而更類似于印刷,沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓上。
這套設備可以應用于最小 14 平方毫米的硅晶圓,從而可以生產相當于 5nm 工藝的芯片。
佳能表示會繼續(xù)改進和發(fā)展這套系統(tǒng),未來有望用于生產 2nm 芯片。
IT之家注:納米印刷(Nanoprinted lithography)通常被認為是光學光刻的低成本替代品,SK 海力士和鎧俠等存儲芯片制造商過去曾嘗試過使用。鎧俠此前進行過測試,不過潛在客戶提出投訴,認為產品缺陷率較高,最后選擇放棄。
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