俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問世

據(jù)外媒報(bào)道，目前，俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。

俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺(tái)國產(chǎn)光刻機(jī)，作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機(jī)，下一步將是開發(fā)90nm光刻機(jī)，并繼續(xù)向下邁進(jìn)。

此前，俄羅斯曾表示，計(jì)劃到2026年實(shí)現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點(diǎn)工藝，2027年實(shí)現(xiàn)28nm本土芯片制造，到2030年實(shí)現(xiàn)14nm國產(chǎn)芯片制造。