350nm,俄羅斯光刻機(jī)制造完成
5月25日消息,據(jù)外媒報(bào)道稱,俄羅斯首臺光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克指出,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm(0.35μm)的芯片。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202405/459251.htm
圖片來源:塔斯社報(bào)道截圖
公開資料顯示,350納米尺寸芯片在當(dāng)代較為落后,但是仍然可以應(yīng)用于汽車、能源和電信等多個行業(yè)。該光刻機(jī)的研制成功對于俄羅斯未來實(shí)現(xiàn)自主生產(chǎn)芯片具有里程碑意義。
圖片來源:全球半導(dǎo)體觀察制圖
目前,全球光刻機(jī)的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。
據(jù)外媒公開消息,俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠,分別是Mikron和Angstrem公司,前者提供65-250nm芯片制造能力,后者(2019年破產(chǎn)重組)提供90-250nm芯片制造,擁有8英寸晶圓廠,兩家都以提供軍用、航天和工業(yè)領(lǐng)域芯片產(chǎn)品為主。因此,預(yù)計(jì)新的國產(chǎn)光刻機(jī)設(shè)備將會供應(yīng)到兩家企業(yè)當(dāng)中。
俄羅斯接下來的目標(biāo)是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機(jī)。之前俄羅斯表示,計(jì)劃到2026年實(shí)現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點(diǎn)工藝,2027年實(shí)現(xiàn)28nm本土芯片制造,到2030年實(shí)現(xiàn)14nm國產(chǎn)芯片制造。
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