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          美光計劃投資約300億元在日本新建DRAM廠

          作者: 時間:2024-05-29 來源:SEMI 收藏

          據(jù)日媒報道,科技計劃投入6000億-8000億日圓(約合人民幣277-369億元)在廣島縣興建新廠,用于生產(chǎn)芯片。這座新廠房將于2026年初動工,并安裝極紫外光刻()設備。消息稱最快2027年底便可投入營運。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202405/459322.htm

          報道稱,此前,政府已批準多達1920億日圓補貼,支持在廣島建廠并生產(chǎn)新一代芯片。去年,經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省曾表示,將利用這筆經(jīng)費協(xié)助科技生產(chǎn)芯片,這些芯片將是推動生成式AI、數(shù)據(jù)中心和自動駕駛技術發(fā)展的關鍵。



          關鍵詞: 美光 DRAM 日本 EUV

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