臺積電今年將拿到最新款光刻機

6月6日消息，據外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機，單臺造價達3.8億美元。

報道中提到，ASML首席財務官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統。

英特爾此前已經訂購了最新的高NA EUV設備，第一臺設備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。

目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設備。

據悉，這些機器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當于兩架空中客車A320。ASML 是世界上唯一一家生產極紫外光刻技術的公司。

臺積電此前宣布，其2nm節(jié)點進展順利，并計劃于2025下半年推出N3X、N2制，并將在2026下半年量產N2P和A16制程。

與3nm制程節(jié)點不同，臺積電2nm制程將使用Gate-all-around FETs（GAAFET）晶體管，相比3nm工藝會有10%到15%的性能提升，還可以將功耗降低25%到30%。

之前，有股東發(fā)言提及近華為發(fā)展晶圓代工相當積極，向臺積電董事長劉德音請教如何評斷，劉德音表示，臺積電著重是自己發(fā)展的速度夠不夠快，臺積電永遠有競爭對手。

“至于華為會不會超越臺積電，本來他想請總裁魏哲家回答，后來就直接說，總裁也不用回答了，因為但根本不可能?！眲⒌乱粽f道。

此言一出，也是引起了行業(yè)專家的吐槽，有人甚至放話，如果沒有先進光刻機，你們恐怕什么也不是。