國產(chǎn)廠商引入首臺光刻機設(shè)備!
據(jù)寧波前灣新區(qū)管理委員會7月15日消息,近日寧波冠石半導體有限公司迎來關(guān)鍵節(jié)點,引入首臺電子束掩模版光刻機。據(jù)悉,該設(shè)備是光掩模版40nm技術(shù)節(jié)點量產(chǎn)及28nm技術(shù)節(jié)點研發(fā)的重點設(shè)備。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202407/461087.htm光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關(guān)鍵部件,類似于相機“底片”,光線經(jīng)過掩膜版后,可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前,我國高精度半導體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進口,國產(chǎn)化率極低。
據(jù)了解,冠石半導體主要從事45nm~28nm半導體光掩模版的規(guī)?;a(chǎn)。當前,冠石半導體一期潔凈車間設(shè)計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~28nm集成電路掩模版。據(jù)冠石相關(guān)負責人介紹,企業(yè)正加速推進海外布局戰(zhàn)略,并在世界一流半導體光掩模版制造技術(shù)班底的加持下,預計今年底,企業(yè)將陸續(xù)實現(xiàn)為國內(nèi)外中高端集成電路掩模版提供制版服務(wù)。
此次引入電子束掩模版光刻機,冠石半導體將成為國內(nèi)技術(shù)能力先進的獨立光掩模版生產(chǎn)企業(yè),可填補國內(nèi)高階制程光掩??瞻?,打破國外高端光掩模版的壟斷局面,提高我國半導體光掩模產(chǎn)業(yè)的安全和可控性。
公開媒體此前報道,南京冠石科技股份有限公司于2023年5月16日與寧波前灣新區(qū)管理委員會簽署《投資協(xié)議書》,投資建設(shè)半導體光掩膜版制造項目。該項目實施主體為寧波冠石半導體有限公司,項目總投資約20億元,先期投資16億元,擬用地約68.8畝,建設(shè)周期計劃為60個月,主要生產(chǎn)45nm~28nm成熟制程的半導體光掩膜版。
評論