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	 > 網(wǎng)絡與存儲 > 業(yè)界動態(tài) > 鎧俠將開發(fā)新型 CXL 接口存儲器：功耗、位密度優(yōu)于 DRAM、讀取快于 NAND
          
    
          

          

          


	
	
	

          
	
          
		
          
			
          鎧俠將開發(fā)新型 CXL 接口存儲器：功耗、位密度優(yōu)于 DRAM、讀取快于 NAND
          
						
          
				作者：
				時間：2024-11-07
				來源：IT之家

				
				
				
				
				
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           11 月 7 日消息，鎧俠日本當?shù)貢r間昨日表示，其“創(chuàng)新型存儲制造技術開發(fā)”提案已獲日本新能源?產(chǎn)業(yè)技術綜合開發(fā)機構（NEDO）“加強后 5G 信息和通信系統(tǒng)基礎設施研究開發(fā)項目 / 先進半導體制造技術開發(fā)”計劃采納。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/202411/464376.htm
          鎧俠表示，在后 5G 信息和通信系統(tǒng)時代，AI 普及等因素產(chǎn)生的數(shù)據(jù)量預計將變得極其龐大，從而導致數(shù)據(jù)中心的數(shù)據(jù)處理和功耗增加。因此數(shù)據(jù)中心使用的存儲器必須能夠在高性能處理器之間高速傳輸數(shù)據(jù)，提高容量并降低功耗。
          鎧俠計劃開發(fā)新型 CXL 接口存儲，目標打造出較 DRAM 內(nèi)存功耗更低且位密度更高的同時較 NAND 閃存讀取速度更快的新型存儲器。這不僅可提高存儲器利用效率，還有助于節(jié)能。
          據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》報道，鎧俠計劃未來 3 年斥資 360 億日元（IT之家備注：當前約 16.77 億元人民幣）用于新型 CXL 存儲器開發(fā)，日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省將提供 180 億日元（當前約 8.39 億元人民幣）補貼，相關產(chǎn)品有望于 21 世紀 30 年代早期實現(xiàn)商業(yè)化。

          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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          關鍵詞：
            			            鎧俠
                        存儲器
                        CXL接口
                        
            
          
            
			
          
		
          	
		

	

          
	
	
          
		
          
			
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