世界最先進(jìn)EUV光刻機(jī)開(kāi)工！Intel已產(chǎn)3萬(wàn)塊晶圓 14A工藝就用它

2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是當(dāng)今世界上最先進(jìn)的EUV極紫外光刻機(jī)，支持High-NA也就是高孔徑，Intel去年搶先拿下了第一臺(tái)，目前已經(jīng)在俄勒岡州Fab D1晶圓廠安裝部署了兩臺(tái)，正在緊張地研究測(cè)試中。

Intel資深首席工程師Steve Carson透露，迄今為止，兩臺(tái)EUV光刻機(jī)已經(jīng)生產(chǎn)了3萬(wàn)塊晶圓，當(dāng)然不算很多，但別忘了這只是測(cè)試和研究使用的，并非商用量產(chǎn)，足以證明Intel對(duì)于新光刻機(jī)是多么的重視。

Steve Carson還強(qiáng)調(diào)，完成同樣的工作，新款光刻機(jī)可以將曝光次數(shù)從3次減少到只需1次，處理步驟也從40多個(gè)減少到不足10個(gè)，從而大大節(jié)省時(shí)間和成本。

Intel曾透露，新光刻機(jī)的可靠性是上代的大約兩倍，但沒(méi)有透露具體數(shù)據(jù)。

ASML EXE:5000光刻機(jī)單次曝光的分辨率可以做到8nm，比前代Low-NA光刻機(jī)的13.5nm提升了多達(dá)40％，晶體管密度也提高了2.9倍。

當(dāng)然，Low-AN光刻機(jī)也能做到8nm的分辨率，但需要兩次曝光，無(wú)論時(shí)間、成本還是良品率都不夠劃算。

全速率量產(chǎn)的情況下，ASML EXE:5000光刻機(jī)每小時(shí)可生產(chǎn)400-500塊晶圓，而現(xiàn)在只有200塊，效率提升100-150％之多。

Intel將會(huì)使用High-NA EUV光刻機(jī)生產(chǎn)14A也就是1.4nm級(jí)工藝產(chǎn)品，但具體時(shí)間和產(chǎn)品未定，有可能在2026年左右量產(chǎn)，或許用于未來(lái)的Nova Lake、Razer Lake。

將在今年下半年量產(chǎn)的Intel 18A 1.8nm工藝，仍舊使用現(xiàn)有的Low-NA EUV光刻機(jī)，對(duì)應(yīng)產(chǎn)品包括代號(hào)Panther Lake的下代酷睿、代號(hào)Clearwater Forest的下代至強(qiáng)。

二者都已經(jīng)全功能正常運(yùn)行，并開(kāi)展了客戶測(cè)試。