傳統(tǒng)過孔數(shù)顯著增加 條狀過孔成大勢所趨
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對于28納米及以下節(jié)點，指導(dǎo)過孔選擇和放置的規(guī)則遠(yuǎn)比圖表復(fù)雜（圖2）。不僅僅有更多規(guī)則，而且規(guī)則更加復(fù)雜。正如討論的一樣，視情況而定，可供選擇的過孔類型也很多。各代工廠有自己的優(yōu)先次序，這決定其將選擇哪種過孔類型。此外，過孔放置還可能受雙重成像等設(shè)計因素的影響。
圖2 繞線工具正面臨過孔規(guī)則增多及其復(fù)雜性提高帶來的挑戰(zhàn)
與過孔選擇相關(guān)的新工藝的要求不僅非常多，而且執(zhí)行起來相當(dāng)復(fù)雜。如果您使用的是矩形過孔，該如何放置過孔陣列呢？應(yīng)對雙圖案需求時，如何準(zhǔn)確確定過孔是不是被包住呢？LEF/技術(shù)文件不僅需要能夠了解和應(yīng)對這些情況，還必須能夠了解和適應(yīng)特定工廠對 優(yōu)先事項、選擇順序、過孔方向和過孔被包住的要求。繞線工具每放置一個過孔，必須確定布局選項，然后了解工廠的優(yōu)先順序來確定正確的過孔選擇和放置。此外，正如之前所討論的，這些優(yōu)先事項可能會經(jīng)常發(fā)生變化，需要不斷更新繞線規(guī)則。
因此，設(shè)計師將做些什么呢？即使你盡可能的充分利用里繞線系統(tǒng)工具，比如說，使用LEF/技術(shù)文件實現(xiàn)的布局中完成了約80%的過孔放置，您將仍然會錯過約20%需要做的事情來優(yōu)化過孔選擇和布局。當(dāng)然，正如您在學(xué)校學(xué)到的，這樣的20%通常是最難且最具挑戰(zhàn)性的過孔優(yōu)化，造成良率影響的可能性最大。盡管有這些獲得工廠認(rèn)證的實用工具幫助您成功排除和糾正這些過孔問題，準(zhǔn)確反標(biāo)到設(shè)計布局文件 （DEF） 需花費多少時間和精力呢？
然而，還是存在著希望。最近的技術(shù)進(jìn)步使得使用這些代工廠驗證過的實用工具自動解決這些復(fù)雜的過孔擺放問題使其符合 DRC/DFM 規(guī)則， 而且可以把這些改變自動反標(biāo)在原始的布局和布線的 DEF 中變得可行。不遠(yuǎn)的將來，設(shè)計師有可能可確保在設(shè)計流程的布局和布線階段能夠高效、準(zhǔn)確和迅速地實現(xiàn)設(shè)計所需的100%過孔優(yōu)化。
Jean-Marie Brunet是俄勒岡州 Wilsonville 明導(dǎo)公司（Mentor Graphics） 可制造設(shè)計和布局布線整合產(chǎn)品營銷總監(jiān)。
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