晶電研發(fā)中心發(fā)表IR 850nm高效率發(fā)光產(chǎn)品

　　晶元光電研發(fā)中心(EPISTARLAB)技術團隊積極投入研發(fā)，近日成功開發(fā)并導入許多前瞻性技術，如新穎性透明導電薄膜(TCO)材料、復合式反射鏡結構、減少光線吸收之磊晶設計等。EPISTARLAB將相關技術導入后，有效地增加光子萃取效率，已大幅提升IR產(chǎn)品效能，創(chuàng)下多項新紀錄。

　　根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示(如附圖)，SFPN42芯片尺寸1x1mm2，實驗室環(huán)境中在操作電流40mA下，達最高光電轉換效率75%;操作電流350mA下WPE大于70%;1A操作電流下.發(fā)光強度更是超越了1W，達輸出功率1,027mW，領先各業(yè)界群雄，如此亮眼的水平使LED更趨于省電節(jié)能。

　　晶元光電秉持著實現(xiàn)LED無限可能之精神，持續(xù)致力于提升產(chǎn)品效能，目前IR850nm產(chǎn)品的應用范圍除了以往的搖控器、開關等傳統(tǒng)應用之外，也包括保全監(jiān)視、智能觸碰屏幕、無線通訊及交通系統(tǒng)等新應用，期望與客戶攜手將LED光源推廣到更具潛力之市場上，并期許能協(xié)助客戶提升競爭優(yōu)勢。