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          LED硫化失效分析與可靠性研究

          作者: 時(shí)間:2013-06-29 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

           談到失效,人們首先會(huì)想到正常電流驅(qū)動(dòng)下出現(xiàn)的死燈不亮現(xiàn)象,或者僅僅發(fā)出微弱光線(xiàn)。事實(shí)上,這已是失效類(lèi)型達(dá)到最嚴(yán)重的程度,稱(chēng)為災(zāi)難失效。相反,如果產(chǎn)品在平時(shí)使用中,一些關(guān)鍵參數(shù)特性偏離出可接受限度,例如永久性光輸出衰減,色溫漂移,顯色指數(shù)下降等,我們稱(chēng)之為參數(shù)失效。

            單獨(dú)從裸晶芯片(即磊晶晶粒)上考慮,出現(xiàn)產(chǎn)品參數(shù)失效機(jī)率很低,因?yàn)樗鼘儆谝环N性質(zhì)很穩(wěn)定的固態(tài)化合物,在規(guī)范的條件下使用,不易損壞,而處于一般應(yīng)用環(huán)境也不起化學(xué)反應(yīng),因此擁有較長(zhǎng)的壽命。然而,為使該芯片發(fā)光,必須將它黏貼在特定的載臺(tái)(即支架或基板)上并以金屬線(xiàn)或焊錫等材料連接晶粒正負(fù)極,然后用高分子材料與發(fā)光材料混合包覆在整個(gè)載臺(tái),這就是所謂封裝制程,經(jīng)過(guò)這段制程后的LED燈珠,包覆在芯片的封裝材料極容易遭受損傷,因此,各種LED參數(shù)失效歸因于封裝材料的破壞和劣化。

            一、LED硫化現(xiàn)象

            大部分參數(shù)失效過(guò)程是一個(gè)漸變的過(guò)程,并且在開(kāi)始時(shí)候不能立刻被察覺(jué),它屬于一種存在的隱患,稱(chēng)之為隱性失效。經(jīng)過(guò)一段時(shí)間,重要材料遭到徹底破壞,最終演變成災(zāi)難失效。硫化現(xiàn)象就屬于這種隱性失效。

            出現(xiàn)硫化反應(yīng)后,產(chǎn)品功能區(qū)會(huì)黑化(如圖1),光通量會(huì)逐漸下降,色溫出現(xiàn)明顯漂移;硫化后的硫化銀隨溫度升高導(dǎo)電率增加,在使用過(guò)程中,極易出現(xiàn)漏電現(xiàn)象;更嚴(yán)重的狀況是銀層完全被腐蝕,銅層暴露。由于金線(xiàn)二焊點(diǎn)附著在銀層表面,當(dāng)支架功能區(qū)銀層被完全硫化腐蝕后,金球出現(xiàn)脫落,從而出現(xiàn)死燈。

            二、LED分析

            查找原因,需要一套科學(xué)完善的失效分析流程,首先必須保存好失效樣品,并對(duì)失效環(huán)境信息進(jìn)行收集。從以往數(shù)據(jù)來(lái)看,大部分封裝廠(chǎng)所獲得的線(xiàn)索來(lái)源,基本為用戶(hù)端硫化異常發(fā)生之后得到的反饋。但由于出現(xiàn)失效環(huán)境并非最終的污染源發(fā)生地,這對(duì)確立源頭顯得比較復(fù)雜與棘手,因此需要借助更多高級(jí)儀器,例如掃描電子顯微鏡(SEM)和能譜分析儀(EDS),通過(guò)微觀(guān)結(jié)構(gòu)觀(guān)察與表面成分分析,進(jìn)行逐層的推斷與排除,最終確立硫元素源頭與硫化起因。

            對(duì)出現(xiàn)硫化問(wèn)題的產(chǎn)品所存放的環(huán)境展開(kāi)調(diào)查發(fā)現(xiàn),硫化異常均出現(xiàn)在應(yīng)用端的通電老化與儲(chǔ)存過(guò)程。源頭主要來(lái)自于含硫橡膠的電源線(xiàn)以及橡膠類(lèi)的絕緣包裝塑料。但并非所有案例都能從存放環(huán)境中找到硫源頭。因此,在存放前或許已經(jīng)發(fā)生硫化現(xiàn)象。從應(yīng)用產(chǎn)品的生產(chǎn)流程分析(圖2),初步推斷,硫化最可能出現(xiàn)在回流焊接環(huán)節(jié),因?yàn)橛苫瘜W(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的觀(guān)點(diǎn)得出,溫度升高,硫的化學(xué)反應(yīng)速率加快,硫化現(xiàn)象加劇。另外,濕度也是一個(gè)重要因素。有研究表明,只需50%的濕度,PCB表面就會(huì)形式一層水膜,隨著濕度從0~80%之間變化,干凈金屬表面可沉積2-10分子層水膜。因此,濕度增加,也會(huì)加速硫化腐蝕的發(fā)生。

            為了進(jìn)一步驗(yàn)證此推論,鎖定硫化發(fā)生環(huán)節(jié),我們通過(guò)能譜分析儀(EDS)對(duì)多個(gè)硫化問(wèn)題的產(chǎn)品連同PCB板進(jìn)行全面的硫含量鑒定。

            表1 EDS元素掃描數(shù)據(jù)顯示,支架功能區(qū),引腳處以及PCB板的焊盤(pán)區(qū)均含有一定的硫元素,且不同區(qū)域硫含量存在差異。另外由表1發(fā)現(xiàn),支架外部引腳處硫含量遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于支架內(nèi)部功能區(qū)。初步判定,支架內(nèi)部功能區(qū)硫元素為外部入侵。究竟硫元素入侵路徑如何,仍需要進(jìn)一步分析。假設(shè)可能入侵的路徑為1.含硫氣體通過(guò)硅膠入侵。2.引腳處硫元素通過(guò)PPA支架滲入功能區(qū)內(nèi)部。我們分別把PPA支架與硅膠結(jié)合面以及連接引腳處PPA支架切開(kāi)面進(jìn)行EDS元素檢測(cè),發(fā)現(xiàn)都沒(méi)有硫的痕跡。相反,在硅膠與功能區(qū)鍍銀層界面含有硫元素,這說(shuō)明硫入侵到功能區(qū)不是從引腳處通過(guò)PPA支架滲入,而是含硫氣體通過(guò)硅膠界面入侵。


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