紐大全球450mm聯(lián)盟相中SOKUDO浸潤ArF微影Track技術(shù)

　　根據(jù)美國商業(yè)資訊報(bào)導(dǎo)，大日本SCREEN制造株式會(huì)社(Dainippon Screen Mfg.)證實(shí)，其子公司開發(fā)的SOKUDO DUO 450mm涂層/顯影系統(tǒng)(coat/develop track system)已被總部位于奧爾巴尼市紐約州立大學(xué)(SUNY)奈米科學(xué)與工程學(xué)院(CNSE)的全球450mm聯(lián)盟(G450C)相中，用于浸潤式ArF微影技術(shù)和定向自組裝(DSA)應(yīng)用。

　　SOKUDO DUO將被嵌入位于CNSE的NanoFab Xtension內(nèi)由大日本SCREEN提供的成套450mm清洗設(shè)備中。大日本SCREEN提供的450mm晶圓刷洗機(jī)、單晶圓清洗以及毫秒退火系統(tǒng)將部署在G450C計(jì)劃安裝的設(shè)備中。G450C是由紐約州州長安德魯?庫默(Andrew M. Cuomo)于2011年9月宣布設(shè)立的公私協(xié)力(public-private partnership, PPP)聯(lián)盟，旨在促進(jìn)該產(chǎn)業(yè)向新的標(biāo)準(zhǔn)450mm晶圓尺寸轉(zhuǎn)型。該聯(lián)盟由CNSE聯(lián)合英特爾(Intel)、IBM、GLOBALFOUNDRIES、三星(Samsung)和臺(tái)積電(TSMC)帶頭創(chuàng)立。

　　SOKUDO DUO擬采用與450mm浸潤式ArF微影系統(tǒng)一致的介面，并將于2014年夏季運(yùn)抵紐約州奧爾巴尼市G450C總部，屆時(shí)將啟動(dòng)所有安裝與參數(shù)特征化工作。此舉極力回應(yīng)并支援2013年7月紐約州發(fā)布的一份公告，該公告計(jì)劃將于2015年4月向CNSE提供一套450mm晶圓ArF浸潤式微影系統(tǒng)。值得注意的是，作為與G450C達(dá)成協(xié)議的一部分，SOKUDO也將提供450mm虛擬晶圓廠track制程支援，從而實(shí)現(xiàn)450mm DSA圖案化測試晶圓制造用于G450C成員的開發(fā)設(shè)備。DSA圖形化功能也將整合到SOKUDO DUO中，用于輔助采用浸潤式ArF曝光的微影技術(shù)。

　　SOKUDO Co., Ltd.執(zhí)行長兼大日本SCREEN半導(dǎo)體設(shè)備公司總裁須原忠浩(Tadahiro Suhara)表示：「總部位于紐約州的G450C及其成員公司是450mm晶圓轉(zhuǎn)型的先驅(qū)，能夠與他們并肩合作我們感到十分高興。大日本SCREEN集團(tuán)參與G450C專案的深度印證了我們在450mm半導(dǎo)體制造設(shè)備開發(fā)中的領(lǐng)導(dǎo)地位。尤其值得自豪的是該專案選擇了SOKUDO DUO 450mm track系統(tǒng)，此舉將鞏固我們長期作為尖端track供應(yīng)商的地位。」

　　CNSE制造創(chuàng)新副總裁兼G450C總經(jīng)理Paul Farrar, Jr.,表示：「在安德魯?庫默州長的領(lǐng)導(dǎo)與宏偉愿景的指導(dǎo)下，紐約進(jìn)一步成為產(chǎn)業(yè)向450mm晶圓技術(shù)實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵轉(zhuǎn)變的中心。我們非常高興與大日本SCREEN的半導(dǎo)體設(shè)備公司繼續(xù)合作，并對其子公司 SOKUDO Co., Ltd參與幫助向450mm晶圓技術(shù)實(shí)現(xiàn)重大轉(zhuǎn)變表示熱烈歡迎?！?/p>

　　2013年7月，在美西半導(dǎo)體展(SEMICON West)期間舉辦的SOKUDO微影技術(shù)早餐論壇上曾揭露，SOKUDO DUO依比例增大的一種450mm完整晶圓已經(jīng)在大日本SCREEN制程技術(shù)中心(位于日本彥根市)的無塵室內(nèi)運(yùn)作一年以上。SOKUDO是首批極力支援該聯(lián)盟的公司之一，其推出了各種450mm薄膜涂層的測試晶圓，包括用于實(shí)現(xiàn)450mm奈米壓印微影圖案化、DSA功能及參數(shù)特征化的黏附性涂層。

　　作為半導(dǎo)體設(shè)備的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)，大日本SCREEN和SOKUDO將繼續(xù)推出世界一流的產(chǎn)品，為產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。