KLA-Tencor推出Teron? SL650 光罩檢測系統(tǒng)
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KLA-Tencor 公司(納斯達(dá)克股票代碼：KLAC)宣布推出 Teron™ SL650，該產(chǎn)品是專為集成電路晶圓廠提供的一種新型光罩質(zhì)量控制解決方案，支持 20nm 及更小設(shè)計節(jié)點。Teron SL650 采用 193nm光源及多種 STARlight™ 光學(xué)技術(shù)，提供必要的靈敏度和靈活性，以評估新光罩的質(zhì)量，監(jiān)控光罩退化，并檢測影響成品率的光罩缺陷，例如在有圖案區(qū)和無圖案區(qū)的晶體增長或污染。此外，Teron SL650 擁有業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)能，可支持更快的生產(chǎn)周期，以滿足檢驗更多數(shù)量的先進(jìn)技術(shù)光罩的需要。
本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/247273.htm
KLA-Tencor 光罩產(chǎn)品事業(yè)部 (RAPID) 副總裁兼總經(jīng)理熊亞霖博士稱：“對于集成電路制造商而言，了解光罩狀況是圖案成像工藝控制的核心要素，因為光罩質(zhì)量變化可能會對在印的每一片晶圓造成毀滅性影響。針對 Teron SL650，我們的團(tuán)隊在適合集成電路晶圓廠的一個緊湊平臺上采用了最先進(jìn)的光罩檢測技術(shù)，生產(chǎn)出一款具有先進(jìn)靈敏度、高產(chǎn)能和可擴(kuò)展至未來節(jié)點能力的光罩質(zhì)量控制系統(tǒng)。通過監(jiān)測新光罩的關(guān)鍵缺陷，并在生產(chǎn)期間識別掩模圖案的累積缺陷和變化，我們的 Teron SL650 能夠幫助芯片制造商保證設(shè)備成品率、性能和生產(chǎn)周期。”
Teron SL650 利用 STARlightSD™ 和 STARlightMD™ 創(chuàng)造出更勝一籌的缺陷捕獲率，以及分別在單芯片和多芯片光罩上的全面檢測，藉此支持晶圓廠內(nèi)各種類型的光罩。芯片制造商還可以使用創(chuàng)新型 STARlightMaps™ 技術(shù)來追蹤光罩隨著時間的退化，找出臨界尺寸 (CD)、薄膜厚度、抗反射層以及光罩上的其他變量的變化——這些變化會影響光罩質(zhì)量從而影響光刻工藝窗口或圖案印刷。此外，Teron SL650 與超紫外線 (EUV) 檢測技術(shù)兼容，能夠與集成電路制造商及早協(xié)作，滿足晶圓廠對 EUV 光罩的要求。
多臺Teron SL650 光罩檢測系統(tǒng)已在世界各地的代工廠、邏輯電路與存儲器生產(chǎn)廠安裝，用于新光罩的質(zhì)量檢測，以及先進(jìn)集成電路制造中所用光罩的重新檢驗。為了保持高性能和高產(chǎn)能，滿足最先進(jìn)的生產(chǎn)需要，Teron SL650 系統(tǒng)由 KLA-Tencor 的全球綜合服務(wù)網(wǎng)絡(luò)提供支持。
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