<meter id="pryje"><nav id="pryje"><delect id="pryje"></delect></nav></meter>
          <label id="pryje"></label>

          新聞中心

          EEPW首頁 > 設(shè)計應(yīng)用 > 基于Ansoft Maxwell的小型化真空滅弧室絕緣優(yōu)化設(shè)計

          基于Ansoft Maxwell的小型化真空滅弧室絕緣優(yōu)化設(shè)計

          作者: 時間:2012-11-21 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          引言

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/259932.htm

          隨著真空開關(guān)技術(shù)的加速發(fā)展,不斷地走向內(nèi)部水平的合理設(shè)計已顯得尤為重要,并成為領(lǐng)域內(nèi)普遍關(guān)注的研究方向,內(nèi)部電場的分布是內(nèi)部水平設(shè)計的關(guān)鍵,而內(nèi)部電場分析研究是一項極其復(fù)雜的動態(tài)問題,其基礎(chǔ)是真空滅弧室內(nèi)部靜電場問題的研究。這里僅從真空滅弧室的靜態(tài)電場來著手分析,在真空滅弧室設(shè)計與改進過程中,借助Ansoft Maxwell軟件的靜電場分析功能可以對真空滅弧室內(nèi)部各組成元件的不同形狀和不同位置下的靜電場進行分析,根據(jù)分析結(jié)果不斷地調(diào)整,最終使其內(nèi)部靜電場達到均勻分布的狀態(tài),從而提高了真空滅弧室的內(nèi)部絕緣水平。

          1、Ansoft Maxwell軟件介紹

          Ansoft Maxwell軟件是國際上流行的大型通用有限軟件包,是功能強大的電磁場仿真工具,主要應(yīng)用于電場、磁場、渦流場、熱場等領(lǐng)域的計算與分析中。

          Ansoft Maxwell軟件是完全的Window程序,友好的用戶界面,使用起來直觀、方便。該軟件較比其它有限元分析軟件具有如下幾點優(yōu)勢:
          (1)具有強大的數(shù)據(jù)處理功能。
          (2)擁有簡便易行的繪圖功能的同時兼有模型輸入端口,可以方便的導(dǎo)入其他繪圖軟件形成的模型。
          (3)在剖分過程中,可進行手動剖分和自動剖分,網(wǎng)格形狀和疏密程度靈活多樣,能量誤差可減小到任意指定值。
          (4)能夠進行各類線性和非線性分析。

          2、Ansoft Maxwell軟件在小型化真空滅弧室絕緣優(yōu)化設(shè)計中的應(yīng)用

          真空滅弧室內(nèi)部主要由觸頭、導(dǎo)電桿、屏蔽罩、波紋管等元件組成,影響其內(nèi)部絕緣水平的因素很多,但內(nèi)部結(jié)構(gòu)的合理設(shè)計可以有效實現(xiàn)內(nèi)部各間隙之間的電容均衡,內(nèi)部電場強度分布均勻,從而提高內(nèi)部絕緣水平。下面是筆者在工作中利用Ansoft Maxwell 二維軟件對小型化真空滅弧室內(nèi)部結(jié)構(gòu)和電場進行分析優(yōu)化的一些方法和體會,供同仁們探討。

          2.1真空滅弧室計算模型的建立

          Ansoft Maxwell的二維靜電場分析主要包括3個部分:前處理模塊、分析模塊和后處理模塊。主要過程為建立模型、設(shè)置邊界、定義材料、賦予邊界條件和載荷、剖分、求解和后處理等。

          真空滅弧室是典型的軸對稱結(jié)構(gòu),其內(nèi)部電場可以視為軸對稱電場,所以在建立計算模型時只需要繪制一半的結(jié)構(gòu)圖即可,這樣可簡化為二維軸對稱問題來分析,可減少后處理過程中的計算量。模型可在Ansoft Maxwell 中建立,也可以在其它繪圖軟件中繪制,然后通過輸入端口導(dǎo)入模型。筆者建議在AUTO CAD或CAXA中建立模型,導(dǎo)入Ansoft Maxwell 中后即可使用,旋轉(zhuǎn)所成的體即可視為求解對象。結(jié)構(gòu)模型如圖1所示:

          圖1 真空滅弧室計算模型圖
          模型建立起來后,設(shè)置邊界條件很關(guān)鍵,事實上真空滅弧室電場的求解是屬于開域場問題,這里我們?yōu)榱撕侠泶_定真空滅弧室電場無界計算區(qū),我們通常取相當(dāng)于滅弧室內(nèi)部區(qū)域的5倍距離處作為開域場邊界,其外部即可視為一無限遠空間,如圖2所示:

          圖2 真空滅弧室全場域電場計算模型場域分區(qū)

          1—真空滅弧室 2—空氣3—無限遠計算區(qū)域 4—開域場邊界

          2.2 靜態(tài)電場的計算

          電算前要根據(jù)結(jié)構(gòu)設(shè)計對各種材料進行賦值,將無限遠邊界定義為氣球邊界。計算條件為:動觸頭及與其連接的金屬件電位設(shè)為零,靜觸頭及與其連接的金屬件電位設(shè)為10kV,屏蔽罩設(shè)置為懸浮電位,無限遠處的氣球邊界設(shè)置為電壓,這里的動靜端電壓條件的設(shè)定也可以反過來。根據(jù)設(shè)定的條件,Ansoft Maxwell 軟件運用自適應(yīng)網(wǎng)格剖分技術(shù),自動生成剖分單元,進行有限元電場分析,如圖3所示。其計算誤差可減小到任意指定值,本文計算中能量誤差小于1%。

          圖3 自適應(yīng)剖分結(jié)果

          Ansoft Maxwell軟件具有強大的后處理功能,可以分析電場方面的多種問題,例如電場強度、電力線分布、電感、電容等,本文主要從特殊點的電場強度和瓷殼沿面的電力線分布來分析。

          2.3 小型化真空滅弧室內(nèi)部結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計

          真空滅弧室小型化后,內(nèi)部各結(jié)構(gòu)件的尺寸、形狀及其相互位置關(guān)系對內(nèi)部絕緣水平的影響非常大,下面針對幾種不同的結(jié)構(gòu)進行分析,結(jié)構(gòu)示意圖如圖3所示。

          圖3—a與圖3—b的區(qū)別在于屏蔽罩的裝配方向與位置不同;
          圖3—c與圖3—b的區(qū)別在于靜端屏蔽罩的設(shè)置。

          圖3不同的設(shè)計結(jié)構(gòu)

          利用Ansoft Maxwell軟件分別對3種方案進行分析計算,在施加相同載荷的條件下得到的結(jié)果截然不同。

          2.3.1電力線的分布

          真空滅弧室的擊穿點都是表現(xiàn)在瓷殼上,瓷殼本身具備一定的絕緣強度,但如果滅弧室內(nèi)部結(jié)構(gòu)不合理,使得瓷殼沿面的電場分布不均勻,就可能在動態(tài)電場作用下導(dǎo)致瓷殼局部擊穿。

          對這三種結(jié)構(gòu)進行計算后,得到的電力線分布圖形如圖4所示:a、b、c為靜端加高壓情況;a1、b1、c1為動端加高壓情況。

          a a1

          b b1

          c c1

          圖4 電力線的分布圖

          【分析】

          圖4—a中:電力線的分布明顯不均勻,中間電位線偏向靜端很多,這樣就增大了靠近靜端的瓷殼沿面的電位梯度,當(dāng)在靜端施加高電壓時很容易導(dǎo)致靠近靜端的瓷殼沿面發(fā)生擊穿;圖4-a1中,在動端施加高電壓時的情況稍好些,但中間電位線也是偏向靜端的,同樣會導(dǎo)致瓷殼沿面的電位梯度不均勻,所以這種方案可以不予考慮。

          圖4—b、圖4-b1、圖4-c、圖4-c1中:瓷殼沿面的電力線分布基本均勻,且中間電位線基本趨于瓷殼沿面的中間位置,這樣在瓷殼沿面上的電位梯度變化就會比較均勻,有利于降低瓷殼沿面的擊穿率,尤其在結(jié)構(gòu)c中增加了端屏蔽罩后,雖然靜端施加高電壓時體現(xiàn)的不很明顯,但當(dāng)變?yōu)閯佣耸┘痈唠妷簳r,中間電位線基本就位于瓷殼沿面的中間位置了,這樣整個瓷殼沿面得電位梯度不會出現(xiàn)突變,提高了瓷殼沿面的絕緣水平,所以加了端屏蔽罩后的結(jié)構(gòu)c要好于其他兩種結(jié)構(gòu)。

          2.3.2電場強度的分析

          真空滅弧室絕緣設(shè)計的另一個關(guān)鍵點就是真空、絕緣外殼與空氣的三相交界處的電場強度。大體積的真空滅弧室可以從設(shè)置端屏蔽罩、均壓罩等措施來改善,但小型化的真空滅弧室則不易從這方面著手,只能通過對內(nèi)部各元件的形狀不斷地進行修正和合理的布置并進行電場強度校核,最終優(yōu)化出內(nèi)部電場均勻分布、三相交界處的電場強度盡量小的設(shè)計方案。

          采用相同的設(shè)定條件,對上述三種結(jié)構(gòu)計算后的電場強度分布圖如圖5所示:a、b、c為靜端加高壓情況;a1、b1、c1為動端加高壓情況。


          a 靜端三相交界處Emax:5.33 e+004kV/m a1 靜端三相交界處Emax:4.27e+004kV/m
          動端三相交界處Emax:1.86 e+004kV/m 動端三相交界處Emax:2.66e+004kV/m


          b 靜端三相交界處Emax:3.73e+004kV/m b1 靜端三相交界處Emax:3.32e+004kV/m
          動端三相交界處Emax:2.4 e+004kV/m 動端三相交界處Emax:2.4e+004kV/m


          c 靜端三相交界處Emax:3.46e+004.kV/m c1 靜端三相交界處Emax:3.2e+004kV/m
          動端三相交界處Emax:2.33e+004kV/m動端三相交界處Emax:2.4e+004kV/m

          圖5為電場強度分布圖

          【分析】

          圖中所示的數(shù)值是相對一定的設(shè)定參數(shù)而測得的。
          結(jié)構(gòu)a:所示數(shù)值表明,無論在靜端施加高電壓還是在動端施加高電壓,其靜端的三相交界處的電場強度均明顯高于動端的三相交界處,所以很容易在靠近靜端出現(xiàn)絕緣破壞,這與上面的電力線的分析結(jié)果是一致的。
          結(jié)構(gòu)b:動靜端三相交界處的電場強度低于結(jié)構(gòu)a,且施加高電壓時動靜端的電場強度差值縮小,較結(jié)構(gòu)a的絕緣水平得到了優(yōu)化。
          結(jié)構(gòu)c:在靜端增加了端屏蔽罩后,靜端三相交界處的電場強度又降低到更小值,而動端變化不明顯,這就使得滅弧室的絕緣水平得到進一步的優(yōu)化。所以三種結(jié)構(gòu)比較而然,結(jié)構(gòu)c是最優(yōu)的。

          從上面的兩種分析情況來看,在滅弧室的絕緣優(yōu)化的結(jié)果是一致的。

          以上僅對有限的幾種方案進行了優(yōu)化分析,旨在介紹Ansoft Maxwell軟件的具體應(yīng)用。在對小型化真空滅弧室的絕緣優(yōu)化設(shè)計中,還需要從很多方面進行優(yōu)化分析,比如觸頭的厚度、半徑、曲率半徑、觸頭與杯座的過渡銜接、屏蔽罩的端口形狀與曲率半徑、觸頭與屏蔽罩的距離、動靜觸頭之間的拉開距離等等。還要將電力線的分析與電場強度的分析兼顧一起來考慮,雖然這個優(yōu)化過程比較繁瑣,但通過一系列的優(yōu)化分析后,可以幫助我們合理的設(shè)計各元件的尺寸并合理的布置各元件的位置,可以有效改善小型化真空滅弧室內(nèi)部的電場分布,提高小型化真空滅弧室的絕緣水平。

          3、結(jié)束語

          1)Ansoft Maxwell軟件的應(yīng)用,為領(lǐng)域內(nèi)的設(shè)計者們提供了科學(xué)的設(shè)計依據(jù),大大縮短了設(shè)計周期,為我們提供了競爭條件。
          2)利用Ansoft Maxwell軟件優(yōu)化后的小型化真空滅弧室,內(nèi)部絕緣水平能夠得到很大的提高,從而進一步適應(yīng)了市場對高壓產(chǎn)品的小型化需求。
          3)本文探討的計算方法僅是筆者在工作中的一點應(yīng)用體會,并且僅適用于二維靜電場的定性分析,更多的應(yīng)用還有待同仁進一步探討。



          評論


          相關(guān)推薦

          技術(shù)專區(qū)

          關(guān)閉
          看屁屁www成人影院,亚洲人妻成人图片,亚洲精品成人午夜在线,日韩在线 欧美成人 (function(){ var bp = document.createElement('script'); var curProtocol = window.location.protocol.split(':')[0]; if (curProtocol === 'https') { bp.src = 'https://zz.bdstatic.com/linksubmit/push.js'; } else { bp.src = 'http://push.zhanzhang.baidu.com/push.js'; } var s = document.getElementsByTagName("script")[0]; s.parentNode.insertBefore(bp, s); })();