聯發(fā)科10核Helio X30明年初問世
相關消息指出,聯發(fā)科在旗艦款處理器Helio X20之后,將計劃持續(xù)推出改良款Helio X22,并且將于后續(xù)推出新款Helio X30,預期以臺積電16nm制程FinFET技術制作。但若從聯發(fā)科稍早透露說法,今年推出的旗艦款處理器將以Helio X20為主,預期新款處理器將維持在2016年間問世。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/279033.htm微博相關消息指出,聯發(fā)科目前著手計劃打造新款旗艦款處理器,其中包含以Helio X20為基礎改良的Helio X22,以及新款Helio X30,前者預期維持臺積電20nm制程技術,而后者則將以16nm制程FinFET技術制作。不過,從聯發(fā)科先前受訪時表示今年旗艦款處理器將維持以 Helio X20為主,加上臺積電16nm制程技術預計在今年第三季才投入量產,此次傳出兩款新處理器應該會選擇在明年初公布。
在相關消息透露細節(jié)里,顯示Helio X30將采用特殊四段檔位設計,相比三段檔位設計的Helio X20預期提供更細膩的處理器效能控制,藉此發(fā)揮精準的電池損耗表現,至于處理器設計則分別以ARM Cortex-A72 2.5GHz四核心架構,搭配ARM Cortex-A72 2.0GHz雙核心架構,另外再加上ARM Cortex-A53 1.5GHz雙核心架構與ARM Cortex-A53 1.0GHz雙核心架構,形成“4+2+2+2”的10核心架構設計。
不過,相關消息并未透露Helio X30預期搭配GPU規(guī)格,但預期仍將以ARM旗下Mali高階GPU為主,還無法確認是否沿用Mali-T800系列GPU,亦有可能采用ARM接下來預期揭曉的全新GPU。至于其余部分則分別對應4GB LPDDR4 1600MHz雙通道記憶體規(guī)格,以及eMMC 5.1儲存元件規(guī)范,另外最高可驅動相機元件高達4000萬畫素。
而改良款Helio X22似乎主要將運作時脈提升,制程依然維持在20nm設計。
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