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          臺(tái)積電大陸設(shè)12寸晶圓廠 中芯副總裁每晚睡不好

          作者: 時(shí)間:2015-09-18 來源:Digitimes 收藏

            中芯國際執(zhí)行副總裁李序武表示,28納米制程除了第一家客戶高通(Qualcomm)量產(chǎn),博通(Broadcom)和華為旗下海思28納米也會(huì)到中芯生產(chǎn),大陸本地IC設(shè)計(jì)公司對(duì)28納米需求更是超強(qiáng)。但談到到大陸設(shè)12吋廠,李序武坦言“的實(shí)力強(qiáng)到我每天都睡不好!”

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/280326.htm

            李序武表示,中芯目前28納米制程良率很不錯(cuò),但仍是有改善空間,重要的是,高通愿意作為第一家量產(chǎn)28納米制程的客戶,對(duì)于中芯高度肯定,目前量產(chǎn)的28納米是PolySiON制程,下一個(gè)目標(biāo)是趕快將28納米的HKMG制程做出來。很多大客戶都在等待28納米的HKMG制程,一旦量產(chǎn),海思和博通都會(huì)來中芯投產(chǎn)。

            除了這些國際IC設(shè)計(jì)大客戶之外,另一波絕對(duì)不容忽略的趨勢,是大陸本地IC設(shè)計(jì)公司對(duì)于28納米制程需求超強(qiáng),很多本地IC設(shè)計(jì)客戶都說“只要中芯28納米HKMG就緒,隨時(shí)去投產(chǎn)”而這也意味著,其實(shí)來自客戶端的壓力逼得緊。

            近期在種種因素考量下,也將到大陸設(shè)立12吋廠,李序武表示,臺(tái)積電技術(shù)和競爭力超強(qiáng),強(qiáng)到讓他每天都睡不好。也期許中芯在先進(jìn)制程開發(fā)和良率驅(qū)動(dòng)會(huì)更加一把勁。

            中芯日前宣布和高通、華為、比利時(shí)微電子(Imec)一起開發(fā)14納米FinFET制程,目前Imec已有一個(gè)團(tuán)隊(duì)常駐在中芯廠內(nèi),但主要技術(shù)開發(fā)重任仍是要中芯努力,Imec只是要提供一些基礎(chǔ)技術(shù)和專利,李序武也表示,這確實(shí)可以讓中芯少走一些冤枉路。

            中芯在投入14納米FinFET制程之前,也評(píng)估過像是FD-SOI技術(shù),這技術(shù)在2年前非常吸引人,雖然整體表現(xiàn)沒有FinFET制程好,但FD-SOI技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是相較于現(xiàn)有制程改變不多,但最后還是走FinFET制程,主要是因?yàn)槎鄶?shù)客戶都是需要FinFET制程。

            李序武也指出,中芯的14納米FinFET制程預(yù)計(jì)在2018年早期風(fēng)險(xiǎn)量產(chǎn)(Risk Production),此前中芯宣布的量產(chǎn)時(shí)間點(diǎn)是2020年。

            除了先進(jìn)制程追著摩爾定律跑,在“超越摩爾定律”(More than Moore)布局上,看好智能型手機(jī)、物聯(lián)網(wǎng)(IoT)時(shí)代下MEMS感測器需求大爆發(fā),據(jù)中芯規(guī)劃,2015年量產(chǎn)MEMS麥克風(fēng)、慣性感測器(Inertial Sensing),預(yù)計(jì)2016年量產(chǎn)壓力感測器等,一步步齊全MEMS感測器產(chǎn)品線全線技術(shù)。

            針對(duì)未來半導(dǎo)體技術(shù),李序武也指出三大技術(shù)趨勢,第一是整合型芯片,如MCU+RF/Wireless、MCU+eNVM+ RF/Wireless;第二是低功耗技術(shù)Ultra-Low Power;第三是3DIC/TSV/WLCSP等封裝技術(shù)。

            針對(duì)RF/Wireless芯片,中芯現(xiàn)以0.11微米、65/55/20納米制程技術(shù)生產(chǎn),未來除了既有的0.11微米制程,以及65/55納米制程,也會(huì)轉(zhuǎn)進(jìn)40/28納米制程技術(shù);嵌入式存儲(chǔ)器Embedded NVM/MCU技術(shù)上,目前是以0.18/0/13微米LL eNVM技術(shù)為主,未來會(huì)轉(zhuǎn)進(jìn)0.11微米和55/40/28納米ULL eNVM技術(shù)。

            在電源管理芯片PMIC產(chǎn)品上,技術(shù)會(huì)由0.18~0.13微米LG/LDMOS轉(zhuǎn)到65/55納米Ultra Efficient LG/LDMOS;在影像感測器CIS上,目前以0.18~0.11微米、90~55納米制程為主,未來會(huì)轉(zhuǎn)到90納米~55/40納米3D CIS技術(shù)。

            目前中芯國際有四個(gè)生產(chǎn)基地,12吋廠以北京和上海廠為主,北京12吋晶圓一廠月產(chǎn)能3.7萬片,制程技術(shù)為0.18微米~55納米,二廠剛開始量產(chǎn),未來會(huì)以先進(jìn)制程40~28納米為主;上海12吋廠月產(chǎn)能為1.4萬片,制程技術(shù)也是鎖定45/40~28納米;其他8吋廠有上海、深圳和天津廠。



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