IBM芯片設(shè)計(jì)取得重大突破 回首十年創(chuàng)新演進(jìn)
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IBM具有開創(chuàng)性的工作開始于1997年在整個(gè)行業(yè)中采用銅線取代鋁線進(jìn)行布線,這一創(chuàng)新使電流阻抗立即下降了35%,同時(shí)芯片性能提高了15%。
從此,IBM的科學(xué)家們一直沿著摩爾定律的軌道持續(xù)不斷地推動(dòng)性能的提升。以下是從IBM實(shí)驗(yàn)室過去十年間的幾十項(xiàng)創(chuàng)新中抽取的十大芯片突破成果:
1.銅芯片(Copper),1997年9月——出于很多技術(shù)原因,大多數(shù)人認(rèn)為在芯片中取代鋁線布線基本不可能。但I(xiàn)BM的工作小組克服了這些技術(shù)問題,很快地將銅線投入到生產(chǎn)中,其結(jié)果使芯片性能立刻得到提高。現(xiàn)在,IBM的開創(chuàng)性技術(shù)仍然是行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)。
2.絕緣硅(SOI),1998年8月——絕緣硅(Silicon on Insulator)技術(shù)通過在現(xiàn)代芯片上絕緣隔離數(shù)以百萬計(jì)的晶體管,從而實(shí)現(xiàn)了功耗的降低和性能的提高。在IBM開發(fā)出這項(xiàng)技術(shù)前,半導(dǎo)體行業(yè)對絕緣硅技術(shù)的研究已經(jīng)進(jìn)行了15年。
3.應(yīng)變硅(Strained Silicon),2001年6月——該項(xiàng)技術(shù)可以拉伸芯片內(nèi)的材料,降低阻抗和加快電子流過晶體管的速度,從而提高性能和降低功耗。
4.雙內(nèi)核微處理器(Dual-Core Microprocessors),2001年10月——全球第一個(gè)雙內(nèi)核微處理器POWER4作為Regatta的一部分發(fā)布,Regatta是一款System p服務(wù)器,是當(dāng)時(shí)世界上功能最強(qiáng)大的服務(wù)器。自此兩年多以后——對于技術(shù)行業(yè)這是一個(gè)漫長的時(shí)間,我們的第一個(gè)競爭對手才將雙內(nèi)核芯片投放市場。
5.浸沒式光刻(Immersion Lithography ),2004年12月——IBM宣布在全球首次采用這項(xiàng)新的制造技術(shù),即可以使芯片尺寸可以做得更小的技術(shù),來生產(chǎn)商用微處理器。
6.冷凍硅鍺芯片(Frozen SiGe Chip),2006年6月——上世紀(jì)90年代,IBM首次采用硅鍺(SiGe)取代了更加昂貴和不穩(wěn)定的材料,制造出了尺寸更小、速度更快和成本更低的芯片,這使IBM開始向經(jīng)營無線產(chǎn)品,如移動(dòng)電話和路由器的公司銷售芯片。去年,IBM通過與NASA提供支持的Georgia科技公司合作,又突破了硅鍺技術(shù)的限制,向全球展示了第一款能夠在500GHz頻率以上工作的硅基芯片——通過將芯片冷凍到接近絕對零度來實(shí)現(xiàn)。
7.高電介質(zhì)(High-k),2007年1月——IBM宣布推出一種解決方案來解決業(yè)界最頭痛的問題之一,即晶體管電流泄漏問題。通過采用新的材料,IBM將制造出具有“高電介質(zhì)金屬門(High-k metal gates)”的芯片,從而使產(chǎn)品的性能更好、尺寸更小、能源效率更高。
8.嵌入式動(dòng)態(tài)隨機(jī)訪問存儲器(eDRAM),2007年2月——通過在微處理器芯片上采用創(chuàng)新的新型快速動(dòng)態(tài)隨機(jī)訪問存儲器(DRAM)取代靜態(tài)存儲器(SRAM),IBM能夠?qū)崿F(xiàn)三倍以上容量的嵌入式內(nèi)存,并使性能得到極大提高。
9.三維芯片堆疊(3-D Chip Stacking),2007年4月——IBM宣布采用“穿透硅通道(through-silicon vias)”技術(shù)制造三維芯片,穿透硅通道使半導(dǎo)體可以垂直疊放,而原來只能接近水平依次排放,這樣就可以將關(guān)鍵線路路徑的長度縮短最高達(dá)1000倍。
10.Airgap,2007年5月——使用“自組裝”納米技術(shù),IBM在Power架構(gòu)的微處理器內(nèi)數(shù)英里長的線路之間創(chuàng)造出一種真空狀態(tài),這樣就減少了不必要的電容,提高了性能和能源效率。
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