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          道康寧電子部推出XR-1541電子束光刻膠

          作者: 時(shí)間:2008-06-30 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            全球材料、應(yīng)用技術(shù)及服務(wù)綜合供應(yīng)商美國公司電子部(Dow Corning Electronics)的解決方案事業(yè)部今日宣布正式開始供應(yīng)Dow Corning® XR-1541電子束膠,該產(chǎn)品是專為實(shí)現(xiàn)下一代、直寫工藝技術(shù)開發(fā)所設(shè)計(jì)。這一新型先進(jìn)的旋涂式光刻膠產(chǎn)品系列是以電子束(electron beam)取代傳統(tǒng)光源產(chǎn)生微影圖案,可提供圖形定義小至6納米的無掩模光刻技術(shù)能力。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/84980.htm

            可用于各種高純度、半導(dǎo)體等級配方的XR-1541電子束光刻膠,是由甲基異丁基酮(methylisobutylketone, MIBK)帶性溶劑中的含氫硅酸鹽類(hydrogen silsesquioxane ,HSQ)樹脂所構(gòu)成。這些負(fù)光刻膠(negative-tone resists)可在標(biāo)準(zhǔn)旋涂沉積涂佈設(shè)備上使用,在單一涂佈中形成30到180納米等不同厚度的薄膜,而定制化的配方還可應(yīng)客戶需求生產(chǎn)更薄或更厚的薄膜。此外,新型光刻膠還提供絕佳的蝕刻阻抗以及下降至3.3納米的邊線定義,可在標(biāo)準(zhǔn)水基顯影劑中顯影。

            直寫式電子束光刻不需任何掩模即可制造非常小的納米尺度結(jié)構(gòu)。首先將光刻材料的薄膜應(yīng)用與,接著,使用狹窄的電子束將光阻曝光使其在顯影劑中不易溶解,而未曝光區(qū)域則可被選擇性地移除以產(chǎn)生精細(xì)的圖案。

            “目前,將光刻技術(shù)延伸至32納米節(jié)點(diǎn)工藝應(yīng)用上正面臨了技術(shù)上和經(jīng)濟(jì)效益上的挑戰(zhàn)。”光刻解決方案全球行銷經(jīng)理Jeff Bremmer表示,“我們創(chuàng)新的新型光刻膠提供研究機(jī)構(gòu)一個(gè)經(jīng)濟(jì)的方式,以可能的最高解析度直寫圖案,將可促進(jìn)積體電路制造、掩?;蚣{米壓印模具的新一代光刻工藝技術(shù)開發(fā)。” 。

            許多大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)已經(jīng)采用以HSQ為基礎(chǔ)的電子束光刻膠直寫精細(xì)的圖案。“藉由XR1541電子束光刻膠在市場上供應(yīng),研究機(jī)構(gòu)將更容易購買并取得這些關(guān)鍵硅基材料。”Bremmer指出。

            自2004年進(jìn)入此一市場以來,硅晶片光刻解決方案事業(yè)部一直為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供光刻膠和抗反射涂料的硅基樹脂材料。

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