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          功耗降低90%? Intel新晶體管材料曝光
          
						
          
				作者：
				時間：2009-04-07
				來源：硬派網(wǎng)
				
				
				
				
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			　　根據(jù)報道， Intel公司新推出一種名為“P-channel”和“N-channel”的晶體管能夠?qū)?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/處理器">處理器的功耗降低至當(dāng)前處理器產(chǎn)品的10％。Intel公司于日前公布了新材料“P-channel”晶體管的更多細(xì)節(jié)，新晶體管基于的是硅基，使用了一種名為III-V的化合物半導(dǎo)體。大約在一年之前Intel公司就對外描述過基于III-V 材料的“P-channel”晶體管，當(dāng)時同樣基于的是硅基。

          　　根據(jù)Intel公司的介紹當(dāng)同時使用N-channel 和P-channel 兩種材料之后就可以制造 CMOS電路塊。并且擁有制造未來處理器產(chǎn)品的潛力。值得一提的就是基于新材料的處理器功耗將非常低，工作核心電壓將只有當(dāng)前處理器的50％，功耗只有當(dāng)前晶體管的10％。
          

          
　　如果這項創(chuàng)新能夠在處理器產(chǎn)品上得到應(yīng)用，那么這將會為我們帶來體積更小、功耗更低、性能更加強(qiáng)大的處理器。很顯然的是新材料將來還可以應(yīng)用在顯卡以及其他高集成度設(shè)備上。
          

          
目前，Intel公司正在著力研究新材料的實用化。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/93173.htm          
				
            
                
			
								
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