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          Toppan宣布28nm光刻掩膜準(zhǔn)備就緒 通過IBM認(rèn)證

          作者: 時(shí)間:2009-04-28 來源:SEMI 收藏

             Printing公司在同IBM的合作下,開發(fā)出新的制造技術(shù),可用于制造32nm和28nm掩膜。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/93871.htm

            該公司稱,這些掩膜在日本Asaka工廠制成,通過了IBM的認(rèn)證。

            從45nm節(jié)點(diǎn)就開始和IBM合作,去年雙方簽署了32nm掩膜技術(shù)的最后階段的合作協(xié)議,以及22nm掩膜的合作開發(fā)協(xié)議。



          關(guān)鍵詞: Toppan 納米 光刻掩膜

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