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          MagmaTalus IC實現(xiàn)系統(tǒng)被納入Reference Flow 10.0

          作者: 時間:2009-07-29 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            芯片設(shè)計解決方案供應(yīng)商微捷碼()設(shè)計自動化有限公司日前宣布,® IC實現(xiàn)系統(tǒng)已被納入臺積電(TSMC)Reference Flow 10.0。采用微捷碼軟件和最新臺積電參考流程(Reference Flow),設(shè)計師可使用“Fastest Path to Silicon™”進行針對臺積電工藝的設(shè)計。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/96699.htm

            “臺積電工藝提供了制造10億門IC的希望,但同時也帶來應(yīng)對更多的物理效應(yīng)、更棘手的功耗要求和困難的時序收斂等問題的挑戰(zhàn)。”微捷碼設(shè)計實施業(yè)務(wù)部總經(jīng)理Premal Buch表示。“微捷碼的最新版本產(chǎn)品 1.1采用了我們?nèi)碌?a class="contentlabel" href="http://www.ex-cimer.com/news/listbylabel/label/COre">COre™技術(shù),通過與臺積電Reference Flow 10.0的結(jié)合使用 可在大型棘手設(shè)計上提供了更快速的設(shè)計收斂。”

            是微捷碼新推出的并發(fā)優(yōu)化布線引擎。這款新布線引擎具備了各種功能,包括:將關(guān)鍵布線推向更厚更寬金屬層、支持臺積電設(shè)計規(guī)則以及提供性能更好、可預(yù)測性更佳、速度更快的整體設(shè)計收斂。

            “多年以來,臺積電一直利用與微捷碼等領(lǐng)先EDA供應(yīng)商的密切合作來共同優(yōu)化EDA設(shè)計技術(shù)和我們的先進工藝技術(shù),”臺積電(TSMC)公司設(shè)計基礎(chǔ)設(shè)施市場部高級總監(jiān)S.T. Juang表示。“通過將系統(tǒng)納入米Reference Flow 10.0,微捷碼和臺積電為雙方客戶提供了差異化的設(shè)計和工藝技術(shù),可改善28納米IC的功耗、性能和可制造性。”

            通過開放創(chuàng)新平臺(OIP)實現(xiàn)28納米設(shè)計

            通過OIP和主動精度保證機制(Active Accuracy Assurance initiative),臺積電提升了整個半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)的質(zhì)量和精度,實現(xiàn)了創(chuàng)新。OIP從建立以來就一直得到微捷碼軟件的支持。微捷碼在研發(fā)(R&D)流程早期就與臺積電和雙方客戶密切合作來確保產(chǎn)品功能提升,滿足客戶的部署要求;此次通過在早期就與臺積電及客戶進行接洽,確保了Talus能夠?qū)崿F(xiàn)針對臺積電28納米工藝的設(shè)計。

            增強的低功耗設(shè)計技術(shù)

            Reference Flow 10.0中的低功耗支持已經(jīng)擴展,包含自底向上的層次化統(tǒng)一功率格式(UPF)流程。UPF可被用于在各種水平的層次化設(shè)計流程中的低功耗設(shè)計。對于具有多個電壓島的低功耗流程,現(xiàn)已提供了對具有雙電源SRAM的不相交電源域支持。為解決漏電問題,Talus能夠進行用于時序優(yōu)化的不同角點下的漏電優(yōu)化,從而不僅提供了更為精確的時序和漏電優(yōu)化,同時最大程度減少了迭代。作為其低功耗流程的一部分,Talus還可支持通用功率格式(CPF)。

            確保28納米工藝可制造性

            為解決28納米節(jié)點的可制造性設(shè)計(DFM)和變異性問題,微捷碼在Talus Vortex布局布線流程中集成進了Talus qDRC物理驗證功能。這款解決方案提供了高度精確的時序驅(qū)動金屬填充,不僅滿足設(shè)計規(guī)則要求,而且也滿足了時序和性能要求。

            其它物理DFM功能還包括:基于臺積電認證的光刻工藝檢查(LPC)熱點檢測引擎的Talus內(nèi)光刻熱點修復(fù);通過在Talus統(tǒng)一設(shè)計環(huán)境內(nèi)中對熱點的修復(fù),從而不僅可避免面積和時序問題,同時還可得到滿足設(shè)計規(guī)則的版圖。對于電氣DFM,臺積電提供了一種集成化eDFM(電氣DFM)分析環(huán)境,它是化學(xué)機械拋光(CMP)、厚度到電氣(T2E)、光學(xué)構(gòu)形到電氣(S2E)和壓力效應(yīng)等DFM效應(yīng)組合。Talus完全支持臺積電基于eDFM的時序分析和優(yōu)化。


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