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          彩色濾光片實現(xiàn)OLED彩色化的瑕疵分析*

          作者:莊筱磊 李榮玉 上海交通大學電子信息與電氣工程學院 施展 劉暢 張浩 余峰 張建華 上海大學廣電電子平板顯示聯(lián)合工程技術中心 時間:2009-08-07 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            而尖峰較多的表面會比一般平整的上制作的器件更容易集中注入空穴,所以表面形態(tài)和器件的漏電流有著直接的聯(lián)系。因為表面的粗糙引尖峰會成為漏電流的途徑。存在的異物等突起,會使這些部位電流密度增高,漏電流加大,功耗增加,嚴重時造成局部短路,產(chǎn)生黑點,結果是顯示器的發(fā)光效率降低、壽命縮短,甚至因出現(xiàn)嚴重黑點而報廢。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/96985.htm

            對于的規(guī)格比較統(tǒng)一標準是10mm×10mm正方形面積內(nèi)的AFM測得的平均粗糙度Ra≤1~3nm、Rp-v≤10~30nm。這樣的要求高于普通STN的ITO基板, LCD用的ITO表面沒有提過如此嚴格的要求,因為其前后電極距離有6000nm之多,幾十nm的Spike(突起)與之相比可以忽略。器件會由于ITO基板表面的粗糙引起的器件像素區(qū)域出現(xiàn)黑點,漏電流過大,壽命較短等一系列的問題。

            結論

            對于將應用于全彩化顯示的技術,目前還有很多課題需要解決。如何解決表面的粗糙度,以及阻隔ITO層下面的有機層上水氣方面,目前業(yè)內(nèi)還沒有滿意的解決方案。以上這些ITO薄膜的粗糙不平屬于納米級別的不平問題,灰塵和針孔等缺陷引起的凸凹不平將引起更嚴重的問題,屬于微米級別的不平問題,所以必須嚴格控制各種灰塵和針眼等缺陷。因此,對于OLED的材料開發(fā)也提出了新的課題,同時也需要對OLED的器件結構的改進。

            參考文獻:

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